SJ/T 11079-1996
掩膜对准曝光机通用技术条件
General specifications for mask alignment and exposure systems
SJT11079-1996, SJ11079-1996
SJ/T 11079-1996相似标准
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手持光刻机如何使用
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；光刻（photolithography）工艺是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易。...
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光刻机是什么
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高精度掩膜对准光刻机
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