ISO 16531:2020
表面化学分析 - 深度分析 - 离子束对准方法和相关的电流或电流密度测量 用于AES和XPS中的深度分析
Surface chemical analysis — Depth profiling — Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
- 标准号
- ISO 16531:2020
- 发布
- 2020年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 16531:2020
- 适用范围
- 本文件规定了离子束对准方法，以确保在俄歇电子能谱 (AES) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 中使用惰性气体离子时，溅射深度分析具有良好的深度分辨率，并实现最佳的表面清洁。 这些方法有两种类型：一种是使用法拉第杯来测量离子电流；另一种是使用法拉第杯来测量离子电流。 另一个涉及成像方法。 法拉第杯方法还指定了离子束中电流密度和电流分布的测量。 该方法适用于束斑直径小于或等于1毫米的离子枪。 这些方法不包括深度分辨率优化。
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