在溅射真空室中使用二号靶位的射频电源对靶材进行磁控溅射。靶材的上方为基片行走单元，能够实现在不同靶位来回循环运动。可以控制行走单元的转速、时间、靶位来得到更加均匀的薄膜。气体流量控制仪器能够实现对氩气等溅射气体及真空腔内压强的测量。同时这一套系统自带了基底加热装置，能够支持最高到 400 摄氏度的基底升温，通过加热电源、温度计、电炉丝及温度控制装置实现对基底的准备升温和温度保持。...
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火炉最高温度800度。 ...
离子被加速到靶材,与靶材原子碰撞。原始离子以及反冲粒子通过材料移动,与其他原子碰撞等等。大多数离子和反冲原子仍保留在材料内,但某些比例的反冲原子通过这种多次碰撞过程被散射到表面。这些粒子离开靶材,然后可能移动到基片上并形成薄膜。磁控溅射上述离子由在靶材前燃烧的气体放电提供。它可以通过直流电压(DC溅射)或交流电压(RF溅射)激发。在DC溅射的情况下,靶材是高纯金属(例如钛)的盘片。...
靶材 靶材是沉积薄膜的重要原料，主要应用于面板显示、半导体、磁记录薄膜、太阳能领域，其中应用于半导体的靶材纯度要求最高。 半导体用金属靶材主要包括超高纯铝靶、钛靶、钽靶等。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号