YS/T 718-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

Flat magneting sputtering target.Niobium target for optical coating

YST718-2009, YS718-2009


标准号
YS/T 718-2009
别名
YST718-2009, YS718-2009
发布
2009年
发布单位
行业标准-有色金属
当前最新
YS/T 718-2009
 
 
引用标准
GB/T 15706 GB/T 2040-2008 GB/T 3630-2006 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001 GB/T 6394-2002
适用范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

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