红外反射层铜膜采用直流磁控溅射铜靶的方式实现;氮氧化物双吸收层的制备是采用通入一定比例的氮气、氧气气氛,使其与钛靶、铝靶反应的反应磁控溅射技术;减反层制备使用的是氧化铝陶瓷靶,射频溅射法制备氧化铝膜层。读完这篇文章,大家对溅射镀膜技术是不是有了更进一步的了解呢?...
大家好,本期我们为大家带来的是「磁控溅射仪制备50nm氧化锌(ZnO)薄膜」,敬请观看!▼/ 前情提要 /本期沈阳科晶小课堂为您讲解磁控溅射仪制备50nm氧化锌(ZnO)薄膜!使用设备:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪▼/ 点击观看视频 /▼/ 小结 / 在硅片上制备50nm的氧化锌(ZnO)薄膜,欢迎各位客户莅临或邮寄样品到科晶实验室体验测试!欢迎后台区留言!...
在溅射真空室中使用二号靶位的射频电源对靶材进行磁控溅射。靶材的上方为基片行走单元,能够实现在不同靶位来回循环运动。可以控制行走单元的转速、时间、靶位来得到更加均匀的薄膜。气体流量控制仪器能够实现对氩气等溅射气体及真空腔内压强的测量。同时这一套系统自带了基底加热装置,能够支持最高到 400 摄氏度的基底升温,通过加热电源、温度计、电炉丝及温度控制装置实现对基底的准备升温和温度保持。...
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。 靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。...
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