ISO 21466:2019由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2019-12-13。
ISO 21466:2019在国际标准分类中归属于: 37.020 光学设备。
本文件规定了具有相关参数、文件格式和拟合程序的结构模型,用于通过基于模型的库(MBL)使用临界尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)成像来表征晶圆和光掩模的临界尺寸(CD)值方法。 该方法适用于样品的线宽测定,例如晶圆上的栅极、光掩模、尺寸小至 10 nm 的单个孤立或密集线特征图案。
其中,临界分辨本领与放大倍数有关,因人眼的分辨本领约为0.2 mm, 放大后,要使人感觉物像清晰,必须使电子束的分辨率高于临界分辨率d0 ,电子束的入射角可通过改变光阑尺寸和工作距离来调整,用小尺寸的光阑和大的工作距离可获得小的入射电子角。 4、衬度 包括:表面形貌衬度和原子序数衬度。表面形貌衬度由试样表面的不平整性引起。...
美国东部时间,2月28日,应用材料公司推出了一款新型电子束测量系统,专门设计用于精确测量采用EUV和新兴高数值孔径EUV光刻技术的半导体器件特征的关键尺寸。芯片制造商使用CD-SEM(特征尺寸测量用扫描电子显微镜)在光刻扫描仪将其从掩模转移到光刻胶后对图案进行亚纳米级测量。这些测量持续校准光刻工艺性能,以确保图案在蚀刻到晶圆之前是正确的。CD-SEM也用于蚀刻后,将预期的图案与晶圆上的结果相关联。...
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