电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范 是非强制性国家标准，您可以免费下载预览页
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而溅射属于物理气相沉积技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。 它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高动能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 ...
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