ASTM F1709-97由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 1996-01-01。
ASTM F1709-97在国际标准分类中归属于: 31.120 电子显示器件。
ASTM F1709-97 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范的最新版本是哪一版？
最新版本是 ASTM F1709-97(2016) 。
1.1 本规范涵盖用作制造半导体电子器件的原材料的纯钛溅射靶材。
1.2 本标准规定了纯度等级、物理属性、分析方法和包装。
而溅射属于物理气相沉积技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。 它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高动能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 ...
本标准适用于非氧化气氛中钎焊电子器件用金、银及其合金钎料。SJ/T 10753-1996SJ/T 10754-2015电子器件用金、银及其合金钎料分析方法 清洁性、溅散性的测定本标准规定了电子器件用金、银及其合金钎料清洁性、溅散性测定方法。...
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