T/CNIA 0143-2022
半导体材料痕量杂质分析用超纯树脂器皿

Ultrapure Resin Vessels for Trace Impurity Analysis of Semiconductor Materials

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标准号: T/CNIA 0143-2022
发布: 2022年
发布单位: 中国团体标准
当前最新: T/CNIA 0143-2022

本文件规定了半导体材料痕量杂质（ng/kg～μg/kg级别）分析用超纯树脂器皿（以下简称器皿）的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。

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