正因为这些优点，使ICP-MS分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中．主要进行的高纯材料分析1. IC硅片表面杂质分析2. 光伏多晶硅、单晶硅杂质分析3. 三氯氢硅、四氯化硅： ICP．MS法测定高纯四氯化硅中们、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九种金属元素．4....
近期，针对半导体和电子产品中污染物的检测，珀金埃尔默推出了《半导体和电子产品解决方案》，方案中包含十多篇应用文献：ICP-MS在超纯水分析中的应用使用单颗粒ICP-MS在反应模式下分析SiO2纳米颗粒利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析SP-ICP-MS测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒使用ICP-MS测定半导体行业常用有机溶剂中的杂质石墨炉原子吸收光谱法测定超纯酸和光刻胶去除溶液中的各类超痕量元素按照伦敦金属交易所指南使用...
ICP-MS技术尤其四极杆型ICP-MS技术具备极低的检测限和快速多元素测定功能，已逐渐成为半导体行业污染分析实验室的标准技术，在硅片表面杂质分析、超纯水、超纯试剂分析、高纯气体分析等多个方面应用广泛。目前，半导体行业所使用的ICP-MS基本被美国及日本厂商垄断。...
（绘制板书）符号适用范围标志一级优级纯GR精密分析、科研用、也可作基准物质绿色二级分析纯AR常用分析试剂、科研用红色三级化学纯CP要求较低的分析用试剂蓝色3. 高纯度试剂主体成分含量通常与优级纯相当，而且杂质检测项目比优级纯GR或基准试剂PT多1-2倍。用于微量分析中试样的分解及试液的制备。1. 专用试剂主体成分含量高，杂质含量很低。...
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