目前常用的碳化硅功率半导体器件主要包括:碳化sbd(schottkybarrierdiode,肖特基二极管)与碳化硅mosfet(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor,金属氧化物半导体场效应管),其中碳化硅mosfet器件属于单级器件,开通关断速度较快,对栅极可靠性提出了更高的要求,而由于碳化硅材料的物理特性,导致栅级结构中的栅氧层缺陷数量较多...
cm-2,研制出氧化镓金属—氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件,击穿电压≥1000 V,导通电阻≤2 mΩ·cm2;制备出高质量氮化硼外延薄膜,研制出波长≤230 nm 的氮化硼深紫外光电探测器,器件开关比≥5×103。...
宽带隙功率器件使制造更高性能、更可靠的组件成为可能,这些组件可以使功率效率提升并在更高的温度下工作。然而,这些材料可能会引入新的失效模式,使用传统的电性失效分析来确定根本原因会变得更具挑战性,可能会影响操作的可靠性和制备良率。以金属氧化物场效应管(MOSFET)为例,这些晶体管被设计用于处理高功率的需求,是大多数开关电源应用的主力。...
阈值电压稳定性:MOSFET的阈值电压会随着偏置而变化,是由偏置温度不稳定(BTI)的时效机制所引起。BTI是晶体管的退化现象。预计SiC“奇点时刻”五年之内到来 系统的角度看碳化硅具有综合成本优势。从前面分析中,碳化硅方案相比硅方案可以提高能效提升续航、减少电池容量缩减成本、降低无源器件及冷却系统体积从而缩减整体模块体积、缩减尺寸。...
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