赛默飞先进的离子色谱和相关技术能为高纯水痕量阴阳离子分析提供离线和在线监测方案,为电子级高纯试剂中ppb-ppm级阴离子和百分比级混酸的含量提供检测方案,并为半导体生产环境空气中痕量阴阳离子的分析提供解决方案。...
本 标准适用于电子工业用硝酸中痕量金属元素钠(Na)、镁(Mg)、铝(Al)、钾(K)、钙(Ca)、钛(Ti)、钒(V)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁 (Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)、砷(As)、锶(Sr)、银(Ag)、镉(Cd)、锡(Sn)、锑(Sb)、钡(Ba)、铅 (Pb)的测定。本标准不涉及使用安全性问题,本标准的使用人应负责建立适当的安全健康条款及使用范围的限制。...
ICP-MS/MS这项新技术应用于稀土铕产品中分析检测,解决高纯铕稀土中痕量稀土铥杂质元素的直接分析的技术难点。高纯稀土通常是指纯度高于99.99%的稀土金属或其氧化物。高纯稀土材料中存在的其它稀土杂质元素常会对最终产品的功能产生影响,随着提炼技术的不断改进,使得稀土氧化物纯度可达到6N(行业上通指稀土杂质元素含量),从而对于痕量稀土杂质测定方法提出了更高的要求。...
“Element GD采用双模式快速流离子源,连续直流放电具有高溅射效率,高分析灵敏度和低的记忆效应特点,脉冲放电适合于非导体、低熔点金属和镀层分析,并结合高分辨率磁质谱确保无干扰分析。使Element GD在硅和碳化硅表面和体相杂质、6N+级高纯铜、高纯钼、5N级高纯金及氧化铟锡ITO等溅射靶材中痕量杂质分析中得到广泛的应用。...
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