GB/T 24575-2009
硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
Test method for measuring surface sodium, aluminum, potassium, and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry
GBT24575-2009, GB24575-2009
GB/T 24575-2009 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 24575-2009
- 别名
- GBT24575-2009
GB24575-2009 - 发布
- 2009年
- 采用标准
- SEMI MF 1617-0304 MOD
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 24575-2009
- 引用标准
- ASTM E122 ASTM E673
- 1.1本标准规定了硅和外延片表面Na，Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na，Al、K和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量，因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。 1.2本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。 1.3本标准特别适用于位于晶片表面约5 nm深度内...
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