YS/T 718-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

Flat magneting sputtering target.Niobium target for optical coating

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标准号

YS/T 718-2009

发布日期

2009年12月04日

实施日期

2010年06月01日

废止日期

无

中国标准分类号

H63

国际标准分类号

77.150.99

发布单位

CN-YS

引用标准

GB/T 2040-2008 GB/T 3630-2006 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001 GB/T 6394-2002 GB/T 15706

适用范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。