YS/T 718-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

Flat magneting sputtering target.Niobium target for optical coating

YS/T 718-2009 发布历史

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

YS/T 718-2009由行业标准-有色金属 CN-YS 发布于 2009-12-04，并于 2010-06-01 实施。

YS/T 718-2009 在中国标准分类中归属于: H63 稀有高熔点金属及其合金，在国际标准分类中归属于: 77.150.99 其他有色金属产品。

YS/T 718-2009 发布之时，引用了标准

• GB/T 2040-2008 铜及铜合金板材
• GB/T 3630-2006 铌板材、带材和箔材
• GB/T 5231-2001 加工铜及铜合金化学成分和产品形状
• GB/T 6394-2002 金属平均晶粒度测定法
• GB/T 15706 机械安全.设计通则.风险评估与风险减小*， 2012-11-05 更新

* 在 YS/T 718-2009 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

YS/T 718-2009的历代版本如下：

• 2009年12月04日 YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

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标准号

YS/T 718-2009

发布日期

2009年12月04日

实施日期

2010年06月01日

废止日期

无

中国标准分类号

H63

国际标准分类号

77.150.99

发布单位

CN-YS

引用标准

GB/T 2040-2008 GB/T 3630-2006 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001 GB/T 6394-2002 GB/T 15706

适用范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。