YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target.Silicon target for optical coating
- 标准号
- YS/T 719-2009
- 发布日期
- 2009年12月04日
- 实施日期
- 2010年06月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- H63
- 国际标准分类号
- 77.150.99
- 发布单位
- CN-YS
- 引用标准
- GB/T 1551-2009 GB/T 2040-2008 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001 GB/T 12963-2009
- 适用范围
- 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。