YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target.Silicon target for optical coating
YST719-2009, YS719-2009
YS/T 719-2009 发布历史
YS/T 719-2009由行业标准-有色金属 CN-YS 发布于 2009-12-04，并于 2010-06-01 实施。
YS/T 719-2009 在中国标准分类中归属于: H63 稀有高熔点金属及其合金，在国际标准分类中归属于: 77.150.99 其他有色金属产品。
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶的最新版本是哪一版？
最新版本是 YS/T 719-2009 。
YS/T 719-2009 发布之时，引用了标准
- GB/T 12963-2009 硅多晶
- GB/T 1551-2009 硅单晶电阻率测定方法
- GB/T 2040-2008 铜及铜合金板材
- GB/T 5231-2001 加工铜及铜合金化学成分和产品形状
YS/T 719-2009的历代版本如下：
- 2009年 YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
- 标准号
- YS/T 719-2009
- 别名
- YST719-2009
YS719-2009 - 发布
- 2009年
- 发布单位
- 行业标准-有色金属
- 当前最新
- YS/T 719-2009
- 引用标准
- GB/T 12963-2009 GB/T 1551-2009 GB/T 2040-2008 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001