GB/T 11164-2011
真空镀膜设备通用技术条件

Vacuum coating plant generic specification

GBT11164-2011, GB11164-2011


GB/T 11164-2011 中,可能用到以下仪器

 

高真空镀膜机 Leica EM ACE600

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徕卡高真空镀膜机 Leica EM ACE600 应用于高分子材料

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450型电子束蒸发镀膜系统

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OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉

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六源有机无机联合蒸发镀膜设备

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三靶高真空磁控镀膜溅射系统

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1600℃三温区高温真空管式炉GSL-1600X-III

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Leica EM ACE600 高真空镀膜仪

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铂瑞达(北京)科技有限公司

 

德国徕卡 高真空镀膜仪 EM ACE600

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徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

 

德国徕卡 溅射镀膜仪 Leica EM SCD005

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德国徕卡 高级型溅射镀膜仪 Leica EM SCD050

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GB/T 11164-2011

标准号
GB/T 11164-2011
别名
GBT11164-2011
GB11164-2011
发布
2011年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 11164-2011
 
 
引用标准
GB 18209.1-2010 GB 5226.1-2008 GB/T 13306-2011 GB/T 13384-2008 GB/T 15945-2008 GB/T 191-2008 GB/T 3163-2007 GB/T 6070-2007 JB/T 7673
被代替标准
GB/T 11164-1999
本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。 本标准适用于螳力在10 …Pa ~10 3 Pa 范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备〔以下简称设备汕

GB/T 11164-2011相似标准


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