GB/T 28654-2012
工业三氯氢硅
Trichlorosilane for industrial use
GBT28654-2012, GB28654-2012
2019-01
GB/T 28654-2012 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 28654-2012
- 别名
- GBT28654-2012
GB28654-2012 - 发布
- 2012年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 替代标准
- GB/T 28654-2018
- 当前最新
- GB/T 28654-2018
- 引用标准
- GB 190-2009 GB/T 11446.1-1997 GB/T 6678 GB/T 6680 GB/T 8170 GB/T 9722-2006 JT 618-2004
- 警告：本试验方法中三氯氢硅试样具有挥发性，其蒸气可与空气形成爆炸性混合物，试样极易水解产生氯化氢气体，对人体的呼吸系统造成危害，所有操作需在通风良好的通风厨中进行，如溅到皮肤上应立即用大量水冲洗，严重者应立即就医。 范围： 本标准规定了工业三氯氢硅产品的要求、试验方法、检验规则以及标志、标签、包装、运输、贮存和安全。 本标准适用于主要作为多晶硅和硅烷偶...
GB/T 28654-2012相似标准
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分离更智能 | 气相色谱质谱法测定四氯硅烷中含碳化合物
-2019)，同时能拓展为三氯氢硅中甲基氯硅烷的分析检测(GB/T 28654-2018)，如图所示：图4.三氯氢硅中的甲基氯硅烷的色谱图（1,二甲基一氯硅烷;2,三氯氢硅;3,一甲基二氯硅烷;4,三甲基一氯硅烷;5,二甲基二氯硅烷;6,一甲基三氯硅烷;7.2-氯丁烷;8.1,2二氯乙烷;9.1-氯丁烷;10.乙烯基三氯硅烷）四氯硅烷和三氯氢硅遇空气易反应，原料中大量的四氯硅烷和三氯氢硅会降低色谱柱和...
关于元素硅的实验室制备方法介绍
石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（SiO2大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。高纯的半导体硅可在1200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅SiHCl3或SiCl4制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。 用镁还原二氧化硅可得无定形硅。用碳在电炉中还原二氧化硅可得晶体硅。电子工业中用的高纯硅则是用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅而制得。...