GB/T 14849.4-2014
工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal.Part 4:Determination of impurity contents.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
GBT14849.4-2014, GB14849.4-2014
GB/T 14849.4-2014 中，可能用到以下仪器
- 标准号
- GB/T 14849.4-2014
- 别名
- GBT14849.4-2014
GB14849.4-2014 - 发布
- 2014年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 14849.4-2014
- 引用标准
- GB/T 6682 GB/T 8170
- 被代替标准
- GB/T 14849.4-2008
- GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。各元素测定范围见表1。
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