02溅射镀膜速率一个经常被提及的问题是，不同靶材的溅射速率到底有多大差别？表 1 列出了不同靶材相对于金靶（假定为 1）的理论溅射速率。由于实际溅射速率会受到各种溅射条件的影响，此处提到的只是理论溅射速率。元素名称符号相对溅射速率金Au1.0银Ag1.2钴Co0.5铬Cr0.5铜Cu0.7铁Fe0.5钼Mo0.3镍Ni0.5钯Pd0.85铂Pt0.6钽Ta0.2钨W0.2表1. ...
高能离子撞击靶材原子，原子以0-100ev的能量发射，这些原子沉积到样品与靶材有视线的范围内的所有表面。可以实现1.0nm分辨率镀膜。 2）、二极直流溅射：是最简单的一种。1-3kev 3）、冷二极溅射：将二极直流溅射改进，用几个装置保持样品在整个镀膜过程中都是冷态。克服二极溅射的热损伤问题。采用环形靶材代替盘形靶；在中间增加一个永磁铁，并且在靶的周围加上环形极靴，偏转轰击在样品表面的电子。...
高能离子撞击靶材原子，原子以0-100ev的能量发射，这些原子沉积到样品与靶材有视线的范围内的所有表面。可以实现1.0nm分辨率镀膜。 2）、二极直流溅射：是最简单的一种。1-3kev 3）、冷二极溅射：将二极直流溅射改进，用几个装置保持样品在整个镀膜过程中都是冷态。克服二极溅射的热损伤问题。采用环形靶材代替盘形靶；在中间增加一个永磁铁，并且在靶的周围加上环形极靴，偏转轰击在样品表面的电子。...
为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。...
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