EN 15991:2015
陶瓷和基本材料的检验.通过电感耦合等离子体光学发射光谱法(ICP OES)与电热汽化(ETV)的粉末和碳化硅的颗粒杂质质量分数的直接测定

Testing of ceramic and basic materials - Direct determination of mass fractions of impurities in powders and granules of silicon carbide by inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP OES) with electrothermal vaporisation (ETV)

陶瓷和基本材料的检验.通过电感耦合等离子体光学发射光谱法(ICP OES)与电热汽化(ETV)的粉末和碳化硅的颗粒杂质质量分数的直接测定 是非强制性国家标准，您可以免费下载预览页

哪些标准引用了EN 15991:2015

BS ISO 16169:2018 碳化硅和类似材料的制备，用于通过ISO 12677X射线荧光（XRF）进行分析熔凝铸珠法 DIN EN ISO 1927-3:2013 整体(粗制)耐火材料产品.第3部分:原样表征(ISO 1927-3-2012).德文版本EN ISO 1927-3-2012

标准号: EN 15991:2015
发布: 2015年
发布单位: 欧洲标准化委员会
当前最新: EN 15991:2015

引用标准: EGV 2037/2000-2000 EN ISO 21068-1:2008 ISO 5022:1979 ISO 5725-2:1994 ISO 5725-4:1994 ISO 8656-1:1988 ISO/IEC Guide 98-3:2008
被代替标准: FprEN 15991-2015

本欧洲标准规定了粉状和粒状碳化硅中 Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Ti、V 和 Zr 痕量元素浓度的测定方法。取决于元素、波长、等离子体条件和重量，该测试方法适用于约0.1mg/kg至约1000mg/kg的上述痕量污染物的质量含量，评估后也适用于0.001mg/kg至约5000mg/kg毫克/公斤。注 1：一般来说，对于使用电感耦合等离子体（...

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