杂质多的峰纯度高
本专题涉及杂质多的峰纯度高的标准有23条。
国际标准分类中，杂质多的峰纯度高涉及到有机化学、分析化学、有色金属产品、半导体材料、有色金属。
在中国标准分类中，杂质多的峰纯度高涉及到、贵金属及其合金、基本有机化工原料、一般有机化工原料、水环境有毒害物质分析方法、重金属及其合金分析方法、电位器。
美国材料与试验协会，关于杂质多的峰纯度高的标准
- ASTM D2712-23 气相色谱法测定高纯度丙烯中烃类杂质的标准试验方法
- ASTM D5060-12(2021)e1 通过气相色谱法测定高纯度乙苯中的杂质的标准测试方法
- ASTM D5060-12 利用气相色谱法测定高纯度乙苯中杂质的标准试验方法
- ASTM UOP555-10 用气体色谱法测定高纯度苯和环己胺中痕量杂质
- ASTM UOP702-09 使用气相色谱法(GC)测定蒸馏高纯度枯烯中的杂质
- ASTM F2113-01(2007) 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
- ASTM D5060-07 气相色谱法测定高纯度乙苯中杂质的标准试验方法
- ASTM D5060-06 用气相色谱法测定高纯度乙苯中杂质的标准试验方法
- ASTM D5996-05 用联机离子色谱法测量高纯度水中阴离子杂质的标准试验方法
- ASTM F2405-04 使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
- ASTM F2405-04(2011) 用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
- ASTM F2113-01 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
- ASTM F2113-01(2011) 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
- ASTM F2113-01e1 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
- ASTM D5060-95(2000) 通过气相色谱法测定高纯度乙苯中的杂质的标准测试方法
- ASTM D5060-95(2000)e1 用气相色谱法测定高纯度乙苯中杂质的标准试验方法
四川省标准，关于杂质多的峰纯度高的标准
- DB51/T 2044-2015 高纯度五氧化二钒 杂质元素含量的测定方法
行业标准-有色金属，关于杂质多的峰纯度高的标准
- YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
日本工业标准调查会，关于杂质多的峰纯度高的标准
- JIS K0550-1994 高纯度水中微生物杂质检验和评估的检测方法
- JIS K1800-1978 高纯度乙烯中痕量杂质的分析方法
，关于杂质多的峰纯度高的标准
- GOST 24977.2-1981 高纯度碲.杂质含量光谱测定法
- GOST 24977.1-1981 高纯度碲.杂质含量化学光谱测定法
- GOST 22518.1-1977 高纯度铅.对杂质含量化学-光谱测定法
可能用到的仪器设备
