x射线光电子能谱方法
本专题涉及x射线光电子能谱方法的标准有12条。
国际标准分类中，x射线光电子能谱方法涉及到分析化学、光学和光学测量、有色金属。
在中国标准分类中，x射线光电子能谱方法涉及到基础标准与通用方法、电子光学与其他物理光学仪器、化学助剂基础标准与通用方法、贵金属及其合金。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线光电子能谱方法的标准
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
国家质检总局，关于x射线光电子能谱方法的标准
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告
- GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则
国际标准化组织，关于x射线光电子能谱方法的标准
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 16129:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 评估X射线光电子能谱仪日常性能的方法
- ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
英国标准学会，关于x射线光电子能谱方法的标准
- BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
行业标准-有色金属，关于x射线光电子能谱方法的标准
- YS/T 644-2007 铂钌合金薄膜测试方法 X射线光电子能谱法 测定合金态铂及合金态钌含量
法国标准化协会，关于x射线光电子能谱方法的标准
- NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
，关于x射线光电子能谱方法的标准
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱电荷控制和电荷校正方法报告
