x射线光电子能谱 厚度

本专题涉及x射线光电子能谱 厚度的标准有7条。

国际标准分类中，x射线光电子能谱 厚度涉及到分析化学。

在中国标准分类中，x射线光电子能谱 厚度涉及到基础标准与通用方法。

国家质检总局，关于x射线光电子能谱 厚度的标准

• GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

英国标准学会，关于x射线光电子能谱 厚度的标准

• BS ISO 14701-2018 表面化学分析. X射线光电子能谱学. 二氧化硅厚度测量
• BS ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量

国际标准化组织，关于x射线光电子能谱 厚度的标准

• ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
• ISO 14701-2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
• ISO 14701:2011 表面化学分析——X射线光电子能谱；氧化硅厚度的测量
• ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量

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