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半导体光催化法

本专题涉及半导体光催化法的标准有64条。

国际标准分类中,半导体光催化法涉及到陶瓷、表面处理和镀涂、半导体分立器件、光电子学、激光设备、光学和光学测量、无机化学、分析化学。

在中国标准分类中,半导体光催化法涉及到特种陶瓷、催化剂、半导体分立器件综合、激光器件、无机化工原料综合、光电子器件综合、半导体光敏器件、半导体二极管、微波、毫米波二、三极管、半导体发光器件、光通信设备。


法国标准化协会,关于半导体光催化法的标准

  • NF ISO 22197-4:2021 技术陶瓷 空气净化用半导体光催化材料性能测试方法 第4部分:除甲醛
  • NF ISO 22197-5:2021 技术陶瓷 空气净化用半导体光催化材料性能试验方法 第5部分:甲硫醇的去除
  • NF ISO 18560-1:2014 技术陶瓷 室内照明环境下采用试验箱法测量净化空气用半导体光催化材料性能的试验方法 第1部分:消除...
  • XP CEN/TS 16599:2014 光催化 确定照射条件以测试半导体材料的光催化性能
  • NF ISO 10677:2011 技术陶瓷 用于测试半导体光催化材料的紫外光源
  • XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 光催化 用于测试半导体材料光催化性能的辐照条件和这些条件的测量
  • NF B44-106-1*NF ISO 18560-1:2014 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)在室内光环境下使用试验室法对半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 第1部分:甲醛的清除
  • NF ISO 14605:2013 技术陶瓷 在室内照明环境中测试半导体光催化材料的光源
  • NF B44-103*NF ISO 10677:2011 细瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)测试半导体光催化材料所用的紫外光源

韩国科技标准局,关于半导体光催化法的标准

  • KS L ISO 10676-2012(2017) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)用活性氧形成能力测定法测定半导体光催化材料净水性能的试验方法
  • KS L ISO 27447-2011(2016) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)半导体光催化材料抗菌活性试验方法
  • KS L ISO 27447-2011(2021) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)-半导体光催化材料抗菌活性试验方法
  • KS L ISO 27448-2011(2021) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)-半导体光催化材料自清洁性能试验方法-水接触角的测量
  • KS L ISO 27448-2011(2016) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)半导体光催化材料自清洁性能试验方法水接触角的测定
  • KS L ISO 10676-2012(2022) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)-用活性氧形成能力测定半导体光催化材料净水性能的试验方法
  • KS L ISO 18560-1:2020 精细陶瓷(高级陶瓷 先进技术陶瓷) - 室内照明环境下通过试验室法测定半导体光催化材料的空气净化性能的试验方法 - 第1部分:去除甲醛
  • KS L ISO 27447:2011 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法

日本工业标准调查会,关于半导体光催化法的标准

  • JIS R 1712:2022 精细陶瓷(高级陶瓷、高级技术陶瓷) 半导体光催化材料抗藻活性试验方法
  • JIS R 1750:2012 精细陶瓷.室内光环境下测试半导体光催化材料用光源
  • JIS R 1708:2016 精细陶瓷(Advanced ceramics、advanced technical ceramics) 用溶解氧消耗量测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法

KR-KS,关于半导体光催化法的标准

  • KS L ISO 27447-2023 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)半导体光催化材料抗菌活性试验方法
  • KS L ISO 18560-1-2020 精细陶瓷(高级陶瓷 先进技术陶瓷) - 室内照明环境下通过试验室法测定半导体光催化材料的空气净化性能的试验方法 - 第1部分:去除甲醛
  • KS L ISO 10677-2023 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷)半导体光催化材料测试用紫外光源
  • KS L ISO 14605-2023 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷)室内照明环境下半导体光催化材料测试用光源

英国标准学会,关于半导体光催化法的标准

  • BS ISO 27447:2019 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料抗菌活性测试方法
  • BS ISO 19722:2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
  • BS ISO 13125:2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
  • BS ISO 19635:2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
  • BS ISO 10676:2010 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 活性氧形成能力测定半导体光催化材料净水性能的测试方法
  • BS ISO 18560-1:2014 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 在室内光环境下使用试验室法对半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 甲醛的清除
  • BS PD CEN/TS 16599:2014 光催化. 半导体材料光催化性能试验的辐照条件以及此类条件的测量
  • BS ISO 10677:2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级技术陶瓷).半导体光催化材料测试用紫外光源
  • BS ISO 22197-2:2019 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料空气净化性能测试方法去除乙醛
  • BS ISO 22197-4:2021 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料空气净化性能的测试方法 除甲醛
  • BS ISO 22197-1:2016 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料空气净化性能的测试方法 去除一氧化氮
  • BS ISO 22197-3:2019 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料空气净化性能测试方法甲苯的去除
  • BS ISO 22197-1:2008 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
  • BS ISO 22197-4:2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
  • BS ISO 22197-3:2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
  • BS ISO 22197-2:2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
  • BS ISO 22197-5:2021 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 半导体光催化材料空气净化性能的测试方法 脱除甲硫醇
  • BS EN 62007-2:2000 光纤系统半导体光电器件.测量方法

国际标准化组织,关于半导体光催化法的标准

  • ISO 19722:2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
  • ISO 13125:2013 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
  • ISO 19635:2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
  • ISO 27447:2019 精细陶瓷(高级陶瓷 高级工业陶瓷).半导体光催化材料抗菌活性的试验方法
  • ISO 19810:2023 精细陶瓷(先进陶瓷、先进技术陶瓷) 室内光照环境下半导体光催化材料自洁性能试验方法 水接触角的测量
  • ISO 18560-1:2014 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 在室内光环境下使用试验室法对半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第1部分: 甲醛的清除
  • ISO 27447:2009 精细陶瓷.(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
  • ISO 22197-1:2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化

欧洲标准化委员会,关于半导体光催化法的标准

  • PD CEN/TS 16599:2014 光催化.半导体材料光催化性能的辐照条件及这些条件的测定
  • CEN/TS 16599:2014 光催化 测试半导体材料光催化性能的辐照条件以及这些条件的测量

德国标准化学会,关于半导体光催化法的标准

RU-GOST R,关于半导体光催化法的标准

国家质检总局,关于半导体光催化法的标准

HU-MSZT,关于半导体光催化法的标准

台湾地方标准,关于半导体光催化法的标准

美国材料与试验协会,关于半导体光催化法的标准

  • ASTM D7085-04(2018) 用X射线荧光光谱法(XRF)测定流体催化裂化催化剂中化学元素的标准指南

行业标准-电子,关于半导体光催化法的标准

工业和信息化部,关于半导体光催化法的标准





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