ZH

RU

EN

Capacidad catalítica de semiconductores

Capacidad catalítica de semiconductores, Total: 132 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en Capacidad catalítica de semiconductores son: Cerámica, Tratamiento superficial y revestimiento., Dispositivos semiconductores, Rectificadores. Convertidores. Fuente de alimentación estabilizada, Circuitos integrados. Microelectrónica, Productos de la industria textil..


Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Capacidad catalítica de semiconductores

  • KS L ISO 10676-2012(2022) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS L ISO 10676:2012 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS L ISO 10676-2012(2017) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS L ISO 22197-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 22197-2:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • KS L ISO 22197-3:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • KS L ISO 22197-4:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4: Eliminación de formaldehído.
  • KS L ISO 22197-1:2008 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de aire de materiales fotocatalíticos semiconductores-Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • KS L ISO 22197-1:2022 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 27448-2011(2021) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada)-Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores-Medición del ángulo de contacto con el agua
  • KS L ISO 27448-2011(2016) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada)-Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores-Medición del ángulo de contacto con el agua
  • KS L ISO 27447-2011(2016) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 27447-2011(2021) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 22197-5:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5: Eliminación de metilmercaptano.
  • KS L ISO 27447:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 17168-1:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 1: Remova
  • KS L ISO 17168-2:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 2: Remova
  • KS L ISO 17168-3:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 3: Remova
  • KS L ISO 17168-4:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 4: Remova

British Standards Institution (BSI), Capacidad catalítica de semiconductores

  • BS ISO 10676:2010 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación de oxígeno activo.
  • BS ISO 10676:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación de oxígeno activo.
  • BS PD CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis. Condiciones de irradiación para probar propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • BS IEC 60747-8-4:2004 Dispositivos semiconductores discretos: transistores de efecto de campo semiconductores de óxido metálico (MOSFET) para aplicaciones de conmutación de potencia
  • BS EN 62418:2010
  • BS ISO 22197-2:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores: eliminación de acetaldehído
  • BS ISO 22197-3:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores: eliminación de tolueno
  • BS ISO 22197-1:2008 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 22197-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de formaldehído
  • BS ISO 22197-3:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de tolueno
  • BS ISO 22197-2:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de acetaldehído
  • BS ISO 19722:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto.
  • BS ISO 22197-5:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de metilmercaptano
  • BS ISO 22197-1:2016 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 22197-4:2021 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de formaldehído
  • BS ISO 10677:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 17168-2:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de acetaldehído
  • BS ISO 22197-5:2021 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de metilmercaptano
  • BS ISO 17168-4:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de formaldehído
  • BS ISO 27448:2009 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores - Medición del ángulo de contacto con el agua
  • BS ISO 13125:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antifúngica de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 19635:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 17168-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 17168-5:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de metilmercaptano
  • 21/30425873 DC BS ISO 22197-4. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4. Eliminación de formaldehído.
  • BS ISO 17168-3:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de tolueno
  • 21/30425876 DC BS ISO 22197-5. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5. Eliminación de metilmercaptano.
  • BS ISO 22601:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición oxidativa de fenol de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante análisis cuantitativo del carbono orgánico total (TOC)
  • BS ISO 27447:2019 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 19810:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Medición del ángulo de contacto con el agua.
  • BS ISO 19652:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición completa de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Descomposición del acetaldehído.
  • BS ISO 17299-5:2014 Textiles. Determinación de la propiedad desodorante. Método del sensor semiconductor de óxido metálico
  • BS ISO 14605:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • 20/30409285 DC BS IEC 63284. Dispositivos semiconductores. Método de prueba de confiabilidad bajo tensión mediante conmutación de carga inductiva para transistores de nitruro de galio

International Organization for Standardization (ISO), Capacidad catalítica de semiconductores

  • ISO 10676:2010 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo.
  • ISO 22197-1:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 19722:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de ensayo para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto
  • ISO 22197-3:2019 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • ISO 22197-2:2019 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • ISO 22197-1:2007 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 22197-2:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 2: Eliminación de acetaldehído
  • ISO 22197-3:2011 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 3: Eliminación de tolueno
  • ISO 22197-4:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22197-5:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano
  • ISO 22197-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22197-5:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano
  • ISO 13125:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para la actividad antifúngica de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 19635:2016 Cerámicas finas (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de ensayo para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 27447:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 27447:2009 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 17168-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 17168-2:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 2: Eliminación de acetaldehído
  • ISO 17168-3:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 3: Eliminación de tolueno
  • ISO 17168-4:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22601:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición oxidativa de fenol de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante métodos cuantitativos.
  • ISO 19810:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Medición del ángulo de contacto con el agua
  • ISO 19652:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de descomposición completa de materiales fotocatalíticos semiconductores en un ambiente de iluminación interior - Descomposición de acetaldehído
  • ISO 19810:2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en condiciones de iluminación interior. Medición del ángulo de contacto con el agua.
  • ISO 17168-5:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano

Association Francaise de Normalisation, Capacidad catalítica de semiconductores

  • XP CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: determinación de las condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores.
  • XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • NF ISO 22197-4:2021 Cerámica técnica. Métodos de ensayo para el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire. Parte 4: eliminación de formaldehído.
  • NF ISO 10677:2011 Cerámica técnica: fuentes de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • NF C80-204*NF EN 62418:2011 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización
  • NF ISO 22197-5:2021 Cerámica técnica. Métodos de ensayo para el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire. Parte 5: eliminación del metilmercaptano.
  • NF EN 62418:2011 Dispositivos semiconductores: prueba de cavidades debido a tensiones de metalización
  • NF ISO 14605:2013 Cerámica técnica: fuentes de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior.
  • NF B44-101-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: eliminación de formaldehído
  • NF B44-103*NF ISO 10677:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • NF EN IEC 62969-2:2018 Dispositivos semiconductores - Interfaz semiconductora para vehículos automotores - Parte 2: Métodos para evaluar el rendimiento de la transmisión inalámbrica de potencia resonante para sensores automotrices
  • NF B44-101-5:2013 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: eliminación del metilmercaptano
  • NF B44-101-5*NF ISO 22197-5:2021 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: eliminación del metilmercaptano
  • NF B44-101-4*NF ISO 22197-4:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: eliminación de formaldehído
  • NF ISO 18560-1:2014 Cerámica técnica - Método de ensayo para medir el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire mediante el método de la cámara de ensayo en un ambiente de iluminación interior - Parte 1: eliminación...
  • NF B44-105*NF ISO 14605:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.

European Committee for Standardization (CEN), Capacidad catalítica de semiconductores

  • PD CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.

German Institute for Standardization, Capacidad catalítica de semiconductores

  • DIN CEN/TS 16599:2014-07*DIN SPEC 7397:2014-07 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones; Versión alemana CEN/TS 16599:2014
  • DIN EN 62418:2010-12 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización (IEC 62418:2010); Versión alemana EN 62418:2010
  • DIN 43653:1976-03 Fusibles de alta capacidad de ruptura para convertidores de semiconductores
  • DIN ISO 22197-1:2018-12 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2007).
  • DIN EN 62418:2010 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización (IEC 62418:2010); Versión alemana EN 62418:2010

HU-MSZT, Capacidad catalítica de semiconductores

  • MSZ 771/5-1979 ALPAKKA ?SR?ZNIKKEL ?TV?ZETEK Huzalok mechanikai tulajdonságai

Danish Standards Foundation, Capacidad catalítica de semiconductores

European Committee for Electrotechnical Standardization(CENELEC), Capacidad catalítica de semiconductores

  • EN 62418:2010 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización

International Electrotechnical Commission (IEC), Capacidad catalítica de semiconductores

  • IEC 62418:2010 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización
  • IEC 60747-8-4:2004 Dispositivos semiconductores discretos. Parte 8-4: Transistores de efecto de campo semiconductores de óxido metálico (MOSFET) para aplicaciones de conmutación de potencia.

ES-UNE, Capacidad catalítica de semiconductores

  • UNE-EN 62418:2010 Dispositivos semiconductores - Ensayo de vacío de tensión de metalización (Ratificada por AENOR en octubre de 2010.)

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Capacidad catalítica de semiconductores

  • JIS R 1750:2012 Cerámica fina: fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • JIS R 1708:2016 Cerámica fina (Cerámica avanzada, Cerámica técnica avanzada) -- Método de ensayo para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto
  • JIS R 1712:2022 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) -- Método de prueba para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores

Professional Standard - Machinery, Capacidad catalítica de semiconductores

  • JB/T 8736-1998 Sustrato cerámico de nitruro de aluminio destinado a ser utilizado en módulos semiconductores de potencia.

Lithuanian Standards Office , Capacidad catalítica de semiconductores

  • LST EN 62418-2010 Dispositivos semiconductores: prueba de vacío de tensión de metalización (IEC 62418:2010)

AENOR, Capacidad catalítica de semiconductores

  • UNE-ISO 22197-1:2012 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación del óxido nítrico
  • UNE 127197-1:2013 Aplicación del método de prueba para evaluar el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores empapados en productos prefabricados de hormigón - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.

KR-KS, Capacidad catalítica de semiconductores

  • KS L ISO 22197-1-2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 22197-2-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • KS L ISO 22197-4-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4: Eliminación de formaldehído.
  • KS L ISO 22197-3-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • KS L ISO 10677-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 22197-1-2022 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 27447-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 22197-5-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5: Eliminación de metilmercaptano.
  • KS L ISO 17168-1-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 1: Remova
  • KS L ISO 17168-2-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 2: Remova
  • KS L ISO 17168-4-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 4: Remova
  • KS L ISO 17168-3-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 3: Remova
  • KS L ISO 14605-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.

Defense Logistics Agency, Capacidad catalítica de semiconductores





©2007-2023 Reservados todos los derechos.