ZH
RU
EN
pulverización de iones de oro
pulverización de iones de oro, Total: 90 artículos.
En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en pulverización de iones de oro son: Tecnología de vacío, SISTEMAS DE FLUIDOS Y COMPONENTES PARA USO GENERAL, Química analítica, Productos de metales no ferrosos., Metales no ferrosos, Materiales semiconductores, Joyería, tubos electronicos, Dispositivos de visualización electrónica., Terminología (principios y coordinación), Zapatillas, Materiales para la construcción aeroespacial., Equipo para el cuidado del cuerpo, Electricidad. Magnetismo. Mediciones eléctricas y magnéticas., Medidas lineales y angulares..
Professional Standard - Electron, pulverización de iones de oro
- SJ 1781-1981 Bomba de iones de pulverización catódica: métodos de prueba
- SJ 1779-1981 Bomba de iones de pulverización catódica ordinaria de dos electrodos - Serie de parámetros
- SJ 1780-1981 Bomba de iones de pulverización catódica ordinaria de dos electrodos: especificación de rendimiento
- SJ/T 10755-1996 Métodos de prueba para soldadura fuerte de oro, plata y sus aleaciones para dispositivos electrónicos. Método de prueba para la propiedad de salpicaduras.
Professional Standard - Machinery, pulverización de iones de oro
- JB/T 4081-2011 Tecnología de vacío: bomba de iones por pulverización
- JB/T 4082-1991 Condiciones técnicas de la bomba de iones de pulverización.
- JB/T 2965-1992 Método de prueba de rendimiento de la bomba de iones de pulverización catódica.
- JB/T 4081-1991 Tipo de bomba de iones de pulverización catódica y parámetros básicos.
German Institute for Standardization, pulverización de iones de oro
- DIN 28429:2003
- DIN IEC 60562:1980 Mediciones de radiación ionizante incidental de tubos electrónicos.
- DIN IEC 60562:1980-05 Mediciones de radiación ionizante incidental de tubos electrónicos.
- DIN CEN/TS 15605:2008 Cobre y aleaciones de cobre - Espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente; Versión alemana CEN/TS 15605:2007
- DIN EN 15605:2010-12 Cobre y aleaciones de cobre - Espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente; Versión alemana EN 15605:2010
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, pulverización de iones de oro
- GB/T 25755-2010 Tecnología de vacío. Bombas de iones por pulverización. Medición de las características de rendimiento.
- GB/T 29658-2013 Objetivo de aleación de aluminio y aluminio de pulverización catódica de alta pureza utilizado en películas electrónicas
- GB/T 31227-2014 Método de prueba para la rugosidad de la superficie mediante microscopio de fuerza atómica para películas delgadas pulverizadas
RU-GOST R, pulverización de iones de oro
- GOST 5.1807-1973
- GOST 27973.2-1988 Oro. Método de análisis de emisiones atómicas con plasma inductivo.
- GOST 5.413-1970 La bomba de iones de pulverización catódica tipo diodo enfriada por materia NMDI-01-1 (NIRD-100) con la fuente de alimentación BP-150. Requisitos de calidad para productos certificados.
- GOST R 52371-2005 Babbits de estaño y plomo. Método de espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- GOST R ISO 22033-2014 Aleaciones de níquel. Determinación de niobio. Método espectrométrico de emisión atómica/plasma acoplado inductivamente
- GOST R ISO 22725-2014 Aleaciones de níquel. Determinación del tantalio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
American Society for Testing and Materials (ASTM), pulverización de iones de oro
- ASTM E1162-87(2001) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
- ASTM E1162-87(1996) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
- ASTM E1438-91(2001) Guía estándar para medir anchos de interfaces en perfiles de profundidad de pulverización catódica utilizando SIMS
- ASTM E1438-91(1996) Guía estándar para medir anchos de interfaces en perfiles de profundidad de pulverización catódica utilizando SIMS
- ASTM E1162-11(2019) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
- ASTM E1162-06 Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
- ASTM F1238-95(2003) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas
- ASTM F1709-97 Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
- ASTM F1709-97(2016) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
- ASTM F1709-97(2002) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
- ASTM F1709-97(2008) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
- ASTM E684-95(2000) Práctica estándar para la determinación aproximada de la densidad de corriente de haces de iones de gran diámetro para el perfilado de profundidad de pulverización catódica de superficies sólidas
- ASTM E684-04 Práctica estándar para la determinación aproximada de la densidad de corriente de haces de iones de gran diámetro para el perfilado de profundidad de pulverización catódica de superficies sólidas
- ASTM F3166-16 Especificación estándar para el objetivo de pulverización catódica de titanio de alta pureza utilizado para la metalización de vías de silicio (TSV)
- ASTM F3192-16 Especificación estándar para el objetivo de pulverización catódica de cobre de alta pureza utilizado para la metalización de vías de silicio (TSV)
- ASTM F1238-95(1999) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas
- ASTM F1238-95(2011) Especificación estándar para objetivos de pulverización catódica de siliciuro refractario para aplicaciones microelectrónicas
- ASTM F2113-01 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
- ASTM F2113-01(2007) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
Professional Standard - Non-ferrous Metal, pulverización de iones de oro
- YS/T 1025-2015 Objetivo de pulverización catódica de tungsteno y aleación de tungsteno de alta pureza utilizado en películas electrónicas
- YS/T 819-2012 Objetivo de cobre de pulverización catódica de alta pureza utilizado en películas electrónicas
- YS/T 893-2013 Objetivo de titanio de pulverización catódica de alta pureza utilizado en películas electrónicas
- YS/T 935-2013 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
工业和信息化部, pulverización de iones de oro
- YS/T 1555-2022 Objetivo de pulverización catódica de aleación de platino, cobalto, cromo y boro
- YS/T 1357-2020 Objetivo de pulverización catódica de aleación de cromo, tantalio y titanio para grabación magnética
- YS/T 1358-2020 Objetivo de pulverización catódica de aleación de hierro, cobalto y tantalio para grabación magnética
British Standards Institution (BSI), pulverización de iones de oro
- BS ISO 17109:2015 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia fotoelectrónica de rayos X, espectroscopia electrónica Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas.
- BS ISO 17109:2022 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopía fotoelectrónica de rayos X, espectroscopía electrónica Auger y perfilado del departamento de pulverización catódica por espectrometría de masas de iones secundarios utilizando una o varias capas delgadas...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia de fotoelectrones de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando sistemas simples y...
- BS ISO 22415:2019 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para determinar el volumen de rendimiento en el perfilado de profundidad de pulverización catódica de racimos de argón de materiales orgánicos.
- BS EN 15605:2010
- BS ISO 22962:2008 Titanio y aleaciones de titanio - Determinación de hierro - Espectrometría de emisión atómica con plasma acoplado inductivamente
International Organization for Standardization (ISO), pulverización de iones de oro
- ISO 17109:2015 Análisis químico de superficies - Perfilado de profundidad - Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia fotoelectrónica de rayos X, espectroscopía de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas
- ISO 17109:2022 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para determinar la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia de fotoelectrones de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Profundidad de pulverización p.
- ISO 22415:2019 Análisis químico de superficie. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para determinar el volumen de rendimiento en el perfilado de profundidad de pulverización catódica de racimos de argón de materiales orgánicos.
- ISO 22725:2007 Aleaciones de níquel - Determinación de tantalio - Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- ISO 22033:2005
- ISO 11435:2005 Aleaciones de níquel - Determinación de molibdeno - Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- ISO 22033:2011 Aleaciones de níquel - Determinación de niobio - Método espectrométrico de emisión atómica/plasma acoplado inductivamente
- ISO/TS 18223:2015 Aleaciones de níquel - Determinación del contenido de níquel - Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- ISO 22962:2008 Titanio y aleaciones de titanio - Determinación de hierro - Espectrometría de emisión atómica con plasma acoplado inductivamente
- ISO 11435:2011 Aleaciones de níquel - Determinación del contenido de molibdeno - Método espectrométrico de emisión atómica/plasma acoplado inductivamente
Group Standards of the People's Republic of China, pulverización de iones de oro
- T/ICMTIA TG0011-2022 Objetivos de pulverización catódica de aluminio y aleaciones de aluminio de alta pureza para circuitos integrados
- T/QGCML 018-2020 Emisor de iones negativos
- T/SZS 4034-2021 Especificación del proceso de película de rodio depositada sobre la superficie de joyería de metales preciosos mediante pulverización catódica con magnetrón.
Society of Automotive Engineers (SAE), pulverización de iones de oro
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), pulverización de iones de oro
- KS D 1939-2003 Análisis químico de aleaciones de zinc mediante método espectrométrico de emisión de plasma acoplado inductivamente.
- KS D 1674-2009 Métodos para el análisis espectrométrico de plasma acoplado inductivamente de oligoelementos en oro puro.
- KS D ISO 22033:2006 Aleaciones de níquel－Determinación de niobio－Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- KS D ISO 22962:2010 Titanio y aleaciones de titanio－Determinación de hierro－Espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- KS D ISO 11435:2006 Aleaciones de níquel－Determinación de molibdeno－Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente
- KS D ISO TS 18223:2018 Aleaciones de níquel. Determinación del contenido de níquel. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
- KS D ISO 22033:2021 Aleaciones de níquel. Determinación del niobio. Método espectrométrico de emisión atómica/plasma acoplado inductivamente.
Standard Association of Australia （SAA）, pulverización de iones de oro
- AS 3515.4:2007 Oro y aleaciones que contienen oro - Determinación del contenido de oro (superior al 99,95 por ciento) - Plasma acoplado inductivamente - Espectrometría de emisión atómica
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, pulverización de iones de oro
- GB/T 41064-2021 Análisis químico de superficies—Perfiles de profundidad—Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopía fotoelectrónica de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas
Association Francaise de Normalisation, pulverización de iones de oro
- NF A08-920:2008 Aleaciones de níquel - Determinación de tantalio - Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
- NF ISO 23166:2019 Aleaciones de níquel - Determinación de tantalio - Método de espectrometría de emisión óptica con fuente de plasma inducida de alta frecuencia
- NF A08-702*NF EN 15605:2010 Cobre y aleaciones de cobre: espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente
- NF EN 10361:2016 Aceros aleados - Determinación de Níquel - Método de espectrometría de emisión óptica con fuente de plasma inducido
European Committee for Standardization (CEN), pulverización de iones de oro
- EN 15605:2010 Cobre y aleaciones de cobre: espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente
Danish Standards Foundation, pulverización de iones de oro
- DS/EN 15605:2010 Cobre y aleaciones de cobre: espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente
Lithuanian Standards Office , pulverización de iones de oro
- LST EN 15605-2010 Cobre y aleaciones de cobre: espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente
AENOR, pulverización de iones de oro
- UNE-EN 15605:2011 Cobre y aleaciones de cobre: espectrometría de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente
- UNE 38863:2012 Titanio y aleaciones de titanio. Determinación de hierro. Espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
KR-KS, pulverización de iones de oro
- KS D ISO TS 18223-2018 Aleaciones de níquel. Determinación del contenido de níquel. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
- KS D ISO 22033-2021 Aleaciones de níquel. Determinación del niobio. Método espectrométrico de emisión atómica/plasma acoplado inductivamente.