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質量分析の不純物

質量分析の不純物は全部で 17 項標準に関連している。

質量分析の不純物 国際標準分類において、これらの分類：非鉄金属、 金属材料試験、 分析化学、 食用油脂、油糧種子、 半導体材料、 原子力工学、 有機化学。

RU-GOST R, 質量分析の不純物

• GOST R 57061-2016 銅：誘導結合プラズマ質量分析法を使用した銅不純物の質量分率の測定
• GOST R 57060-2016 銅：誘導結合プラズマ原子発光分析法を使用した銅の不純物質量分率の測定
• GOST 2706.2-1974 ベンゼン芳香族炭化水素ベンゼン、トルエン、キシレン中の塩基性物質とベンゼン中の不純物のクロマトグラフィーによる測定
• GOST R 56240-2014 銅、不純物のスペクトル分析方法

Professional Standard - Non-ferrous Metal, 質量分析の不純物

• YS/T 244.9-2008 高純度アルミニウムの化学分析方法 第9部：誘導結合プラズマ質量分析法による不純物含有量の測定
• YS/T 34.1-2011 高純度ヒ素の化学分析法 誘導結合プラズマ質量分析法 (ICP-MS) による高純度ヒ素中の不純物含有量の定量

International Organization for Standardization (ISO), 質量分析の不純物

• ISO 14237:2010 表面化学分析、二次イオン質量分析、均一なドーピング種を使用したシリコン内のホウ素原子濃度の測定。
• ISO 14237:2000 表面化学分析 二次イオン質量分析 均一なドーピング種を使用したシリコン内のホウ素原子濃度の測定

Association Francaise de Normalisation, 質量分析の不純物

• NF X21-070*NF ISO 14237:2010 表面化学分析、二次イオン質量分析、均一なドーピング種を使用したシリコン内のホウ素原子濃度の測定。

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 質量分析の不純物

• GB/T 20176-2006 表面化学分析、二次イオン質量分析、均一なドーピング種を使用したシリコン内のホウ素原子濃度の測定。
• GB/T 24582-2009 酸浸出 誘導結合プラズマ質量分析計による多結晶シリコン表面上の金属不純物の測定。

British Standards Institution (BSI), 質量分析の不純物

• BS ISO 14237:2010 表面化学分析、二次イオン質量分析、均一なドーピング種を使用したシリコン内のホウ素原子濃度の測定。

Group Standards of the People's Republic of China, 質量分析の不純物

• T/GAIA 007.1-2021 油脂中の外来性不純物の測定 第 1 部: 難治性の外来性不純物の測定 液体クロマトグラフィー - タンデム質量分析法

GOSTR, 質量分析の不純物

• PNST 499-2020 ナノテクノロジー 化学元素不純物を測定するための小型カーボン ナノチューブ誘導結合プラズマ質量分析

American Society for Testing and Materials (ASTM), 質量分析の不純物

• ASTM C1287-95(2001) 誘導結合プラズマ質量分析法による二酸化ウラン中の不純物を測定するための標準的な試験方法
• ASTM C1287-18 誘導結合プラズマ質量分析法による核グレードのウラン化合物中の不純物を定量するための標準試験方法
• ASTM C1287-10 誘導結合プラズマ質量分析法による核グレードのウラン化合物中の不純物を測定するための標準試験方法

その他：   質量分析の不純物, 不純物プロファイリング, タンデム質量分析, 質量分析 質量分析 hplc, 質量分析の不純物, 質量分析不純物イオン, 質量分析による不純物分析, 不純物の質量スペクトル, 質量分析, 不純物スペクトル, マススペクトルの不純物のピーク, 質量分析法により測定された不純物, スペクトル質量分析, サンプル不純物の質量スペクトル, スペクトル質量分析, 質量分析, 不純物スペクトル, 質量分析/質量, マススペクトルの不純物のピーク, 質量分析法による不純物.