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電子回折輝度

電子回折輝度は全部で 55 項標準に関連している。

電子回折輝度 国際標準分類において、これらの分類：長さと角度の測定、語彙、分析化学、金属材料試験、光学機器、光学および光学測定、紙とボール紙、消防、医療機器、プリント回路およびプリント回路基板。

RU-GOST R, 電子回折輝度

GOST R 8.696-2010 測定の一貫性を確保するための国家制度結晶の面間隔と回折パターンの輝度分布電子線回折装置による測定
GOST R ISO 13067-2016 測定の一貫性を確保するための国家システムマイクロビーム分析後方散乱電子回折平均粒子径の測定

International Organization for Standardization (ISO), 電子回折輝度

ISO/CD 23699 マイクロビーム解析—後方散乱電子回折—語彙
ISO 13067:2011 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒径測定
ISO/CD 25498:2023 マイクロビーム分析分析電子顕微鏡法透過型電子顕微鏡を使用した選択領域電子回折分析
ISO 23749:2022 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、鋼中のオーステナイトの定量
ISO 13067:2020 マイクロビーム分析 - 電子後方散乱回折 - 平均粒径の測定
ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した指向性測定ガイド
ISO/DIS 24173:2023 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド
ISO 25498:2010 マイクロビーム分析、分析電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡を使用した選択領域の電子回折分析。
ISO 25498:2018 マイクロビーム分析、分析電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡を使用した選択領域の電子回折分析。

Association Francaise de Normalisation, 電子回折輝度

NF X21-014:2012 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒子径の測定
NF EN 61262-3:1994 医用電子機器用放射線イメージインテンシファイアの特性その3 輝度分布と輝度ムラの測定
NF ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折方位測定ガイド
NF X21-011*NF ISO 24173:2009 マイクロビーム分析のための電子後方散乱回折方向測定のガイド
NF C74-223*NF EN 61262-3:1994 医療用電気機器電気光学式X線イメージ増倍管の特性その3 輝度分布と輝度ムラの測定

United States Navy, 電子回折輝度

NAVY UFGS-01 33 29-2010 低エネルギー電子回折 (TM) ファイル

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 電子回折輝度

GB/T 36165-2018 電子後方散乱回折 (EBSD) 法による金属の平均粒径の測定
GB/T 18907-2002 透過型電子顕微鏡による電子回折分析法を採用
GB/T 19501-2004 電子後方散乱回折分析法の一般原則
GB/T 20724-2006 結晶厚が薄い場合の収束電子回折測定法
GB/T 19501-2013 マイクロビーム解析の一般原理電子後方散乱回折解析法
GB/T 18907-2013 マイクロビーム解析、分析電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡、選択電子回折分析法
GB/T 30703-2014 マイクロビーム解析ガイドライン後方散乱電子回折方位解析手法
GB/T 38532-2020 マイクロビーム分析電子後方散乱回折平均粒径の決定

British Standards Institution (BSI), 電子回折輝度

BS ISO 13067:2011 マイクロビーム分析、反射電子回折、平均粒径測定
BS ISO 25498:2018 マイクロビーム分析分析電子顕微鏡法透過型電子顕微鏡を使用した選択領域電子回折分析
BS EN 61262-3:1995 医用電気機器用電子光学式X線イメージ増倍管の特性輝度分布と輝度ムラの測定
BS ISO 13067:2020 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定
BS ISO 23749:2022 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量的測定後方散乱電子回折
BS ISO 24173:2009 マイクロビーム解析、後方散乱電子回折を使用した方位角測定の基準
BS ISO 25498:2010 マイクロビーム分析、分析電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡を使用した選択領域の電子回折分析。
19/30365236 DC BS ISO 13067 マイクロビーム分析後方散乱電子回折平均粒径の測定

American National Standards Institute （ANSI), 電子回折輝度

ANSI/TAPPI T1216 sp-2012 白色度、黄色度、明度、光反射率のカタログ

German Institute for Standardization, 電子回折輝度

DIN ISO 13067:2015 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒径測定 (ISO 13067-2011)
DIN ISO 13067:2021-08 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径測定
DIN ISO 24173:2013-04 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド
DIN ISO 13067:2021 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定 (ISO 13067:2020)

BE-NBN, 電子回折輝度

NBN C 74-572-1990 放射線画像用電子光増倍管の輝度分布の決定

Shanghai Provincial Standard of the People's Republic of China, 電子回折輝度

DB31/T 1156-2019 電気火災メルトマーク技術識別電子後方散乱回折法

工业和信息化部, 電子回折輝度

YB/T 4677-2018 鋼の電子後方散乱回折 (EBSD) 法における集合組織の決定

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 電子回折輝度

KS C IEC 61262-3-2003(2018) 医療用電気機器～電子光学X線画像の時間波形の特徴～その3：輝度分布と輝度ムラの判定
KS C IEC 61262-3:2003 医用電気機器電気光学式X線イメージ増倍管の特性その3 輝度分布と輝度ムラの測定

Professional Standard - Energy, 電子回折輝度

NB/SH/T 6024-2021 X線回折法によるZSM-5モレキュラーシーブの相対結晶化度の測定

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 電子回折輝度

GB/T 20724-2021 マイクロビーム分析収束ビーム電子回折薄い結晶の厚さの測定
GB/T 41076-2021 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量分析電子後方散乱回折

International Electrotechnical Commission (IEC), 電子回折輝度

IEC PAS 62326-20:2011 プリント基板パート 20: 高輝度 LED 用電子回路基板

GOSTR, 電子回折輝度

GOST R IEC 62326-20-2019 プリント基板第20部高輝度LED用電子回路基板

SE-SIS, 電子回折輝度

SIS SS IEC 572:1986 X線装置。 X線光電イメージインテンシファイア輝度分布測定

European Committee for Electrotechnical Standardization（CENELEC）, 電子回折輝度

HD 511 S1-1988 光電X線イメージインテンシファイアの輝度分布の測定

IN-BIS, 電子回折輝度

IS 13729-1993 電気光学式X線イメージインテンシファイアの輝度分布の測定

IEC - International Electrotechnical Commission, 電子回折輝度

PAS 62326-20-2011 プリント基板パート 20: 高輝度 LED 用電子回路基板 (バージョン 1.0)

Danish Standards Foundation, 電子回折輝度

DS/EN 61262-3:2013 医用電気機器用電子光学式X線イメージ増強管の特性その3 輝度分布と輝度ムラの判定

AENOR, 電子回折輝度

UNE-EN 61262-3:1996 医用電気機器用電子光学式X線イメージ増強管の特性その3 輝度分布と輝度ムラの判定

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 電子回折輝度

GB/T 34172-2017 マイクロビーム解析後方散乱電子回折金属・合金の位相解析法

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