ZH
EN
ES
Масс-спектрометрия вторичных ионов+
Масс-спектрометрия вторичных ионов+, Всего: 72 предметов.
В международной стандартной классификации классификациями, относящимися к Масс-спектрометрия вторичных ионов+, являются: Аналитическая химия, Испытание металлов, Полупроводниковые материалы, Полупроводниковые приборы.
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- GB/T 40129-2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.
- GB/T 39144-2020 Метод определения содержания магния в материалах из нитрида галлия. Масс-спектрометрия вторичных ионов.
- GB/T 40109-2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод глубинного профиля бора в кремнии.
- GB/T 41153-2021 Определение содержания примесей бора, алюминия и азота в монокристалле карбида кремния — масс-спектрометрия вторичных ионов.
British Standards Institution (BSI), Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- BS ISO 13084:2011 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Калибровка шкалы масс времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов
- BS ISO 20411:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод коррекции насыщенной интенсивности в динамической масс-спектрометрии вторичных ионов со счетом одиночных ионов
- BS ISO 13084:2018 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов
- BS ISO 22048:2004 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
- BS ISO 12406:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии
- BS ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- 20/30409889 DC BS ISO 18114. Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности по ионно-имплантированным эталонным материалам
- BS ISO 18114:2021 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности по ионно-имплантированным эталонным материалам
- BS ISO 17862:2022 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах со счетом одиночных ионов
- 20/30409963 DC BS ISO 17862. Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах со счетом одиночных ионов
- BS ISO 22415:2019 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод определения объема выхода при профилировании глубины аргонового кластерного распыления органических материалов
International Organization for Standardization (ISO), Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- ISO 13084:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.
- ISO 13084:2011 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.
- ISO 22048:2004 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
- ISO 12406:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии.
- ISO 17560:2014 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
- ISO/TS 22933:2022 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод измерения массового разрешения в ВИМС.
- ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- ISO 14237:2000 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- ISO 20411:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод коррекции насыщенной интенсивности при динамическом масс-спектрометрии вторичных ионов с подсчетом одиночных ионов.
- ISO 178:1975 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах с подсчетом одиночных ионов.
- ISO 17862:2013 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах с подсчетом одиночных ионов.
- ISO 178:2019 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах с подсчетом одиночных ионов.
- ISO 17862:2022 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах с подсчетом одиночных ионов.
- ISO 22415:2019 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод определения объема выхода при профилировании глубины аргонового кластерного распыления органических материалов.
Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- JIS K 0153:2015 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Повторяемость и постоянство шкалы относительной интенсивности в статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
- JIS K 0157:2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.
- JIS K 0158:2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод коррекции интенсивности насыщения при подсчете одиночных ионов. Динамическая масс-спектрометрия вторичных ионов.
- JIS K 0168:2011 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
- JIS K 0164:2023 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профиля бора в кремнии.
- JIS K 0143:2023 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- JIS K 0156:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки по глубине кремния с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
- JIS K 0155:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в пролетных масс-анализаторах с подсчетом одиночных ионов.
- JIS K 0169:2012 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов (ВИМС). Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов с дельта-слоями.
Association Francaise de Normalisation, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- NF ISO 23830:2009 Химический анализ поверхностей. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Повторяемость и постоянство шкалы относительных интенсивностей в статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
- NF X21-070*NF ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- NF ISO 17560:2006 Химический анализ поверхностей. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Дозировка бора в кремнии методом профилирования толщины.
- NF ISO 14237:2010 Химический анализ поверхностей. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Определение атомов бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- NF ISO 23812:2009 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки по глубине для кремния с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- GB/T 42263-2022 Определение содержания азота в монокристалле кремния — метод вторично-ионной масс-спектрометрии.
- GB/T 32495-2016 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии.
- GB/T 24580-2009 Метод испытаний для измерения загрязнения бором сильнолегированных кремниевых подложек n-типа методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- GB/T 24575-2009 Метод испытаний для измерения поверхностного натрия, алюминия, калия и железа на кремниевых и эпи-подложках методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- GB/T 32281-2015 Метод испытаний для измерения кислорода, углерода, бора и фосфора в солнечных кремниевых пластинах и сырье. Масс-спектрометрия вторичных ионов.
- GB/T 25186-2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности по ионно-имплантированным стандартным образцам.
- GB/T 42274-2022 Определение содержания и распределения микроэлементов (магния, галлия) в нитридных материалах алюминия — Вторичная ионная масс-спектрометрия.
- GB/T 29851-2013 Метод испытаний для измерения бора и алюминия в кремниевых материалах, используемых в фотоэлектрических приложениях, методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- GB/T 20176-2006 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
- GB/T 29852-2013 Метод испытаний для измерения фосфора, мышьяка и сурьмы в кремниевых материалах, используемых в фотоэлектрических приложениях, методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- GB/T 22572-2008 Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием многослойных эталонных материалов для вторичной ионной масс-спектрометрии в химии поверхности
Professional Standard - Electron, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- SJ/T 11493-2015 Метод испытаний для измерения концентрации азота в кремниевых подложках методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- SJ/T 11498-2015 Метод испытаний для измерения загрязнения кислородом сильнолегированных кремниевых подложек методом вторичной ионной масс-спектрометрии
American Society for Testing and Materials (ASTM), Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- ASTM E1162-87(2001) Стандартная практика представления данных о профиле глубины распыления в масс-спектрометрии вторичных ионов (ВИМС)
- ASTM E1162-87(1996) Стандартная практика представления данных о профиле глубины распыления в масс-спектрометрии вторичных ионов (ВИМС)
- ASTM E1504-11(2019) Стандартная практика представления масс-спектральных данных в масс-спектрометрии вторичных ионов (ВИМС)
- ASTM E1635-95(2000) Стандартная практика представления данных визуализации в масс-спектрометрии вторичных ионов (SIMS)
- ASTM E1635-06(2019) Стандартная практика представления данных визуализации в масс-спектрометрии вторичных ионов (SIMS)
- ASTM E2695-09 Стандартное руководство по интерпретации масс-спектральных данных, полученных с помощью времяпролетной масс-спектроскопии вторичных ионов
- ASTM E1162-11(2019) Стандартная практика представления данных о профиле глубины распыления в масс-спектрометрии вторичных ионов (ВИМС)
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- KS D ISO 22048-2005(2020) Химический анализ поверхности - информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
- KS D ISO 18114-2005(2020) Химический анализ поверхности-Масс-спектрометрия вторичных ионов-Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов
- KS D ISO 20341-2005(2020) Химический анализ поверхности – масс-спектрометрия вторичных ионов – метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов с дельта-слоями.
未注明发布机构, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- BS ISO 22048:2004(2005) Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической вторично-ионной масс-спектрометрии.
- BS ISO 20341:2003(2010) Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов дельта-слоя.
KR-KS, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- KS D ISO 17560-2003(2023) Химический анализ поверхности - масс-спектрометрия вторичных ионов - полевой метод измерения распределения бора по глубине в кремнии
- KS D ISO 14237-2003(2023) Подповерхностный химический анализ. Масс-спектрометрический анализ вторичных ионов. Метод измерения концентрации равномерно добавленных атомов бора в кремнии.
Group Standards of the People's Republic of China, Масс-спектрометрия вторичных ионов+
- T/CASAS 010-2019 ОПРЕДЕЛЕНИЕ концентрации и распределения микропримесей в материалах GaN методом вторичной ионной масс-спектрометрии
- T/CASAS 009-2019 ОПРЕДЕЛЕНИЕ КОНЦЕНТРАЦИИ И РАСПРЕДЕЛЕНИЯ МИКРОВЫХ ПРИМЕСЕЙ В ПОЛУИЗОЛЯЦИОННЫХ МАТЕРИАЛАХ SiC МЕТОДОМ ВТОРИЧНО-ИОННОЙ МАСС-СПЕКТРОМЕТРИИ