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Espectrometría de masas de iones secundarios+

Espectrometría de masas de iones secundarios+, Total: 72 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en Espectrometría de masas de iones secundarios+ son: Química analítica, pruebas de metales, Materiales semiconductores, Dispositivos semiconductores.

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Espectrometría de masas de iones secundarios+

GB/T 40129-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo.
GB/T 39144-2020 Método de prueba para el contenido de magnesio en materiales de nitruro de galio: espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 40109-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio.
GB/T 41153-2021 Determinación del contenido de impurezas de boro, aluminio y nitrógeno en un monocristal de carburo de silicio: espectrometría de masas de iones secundarios

British Standards Institution (BSI), Espectrometría de masas de iones secundarios+

BS ISO 13084:2011 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
BS ISO 20411:2018 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
BS ISO 13084:2018 Cambios rastreados. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
BS ISO 22048:2004 Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios.
BS ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio.
BS ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
20/30409889 DC BS ISO 18114. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.
BS ISO 18114:2021 Cambios rastreados. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.
BS ISO 17862:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
20/30409963 DC BS ISO 17862. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
BS ISO 22415:2019 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para determinar el volumen de rendimiento en el perfilado de profundidad de pulverización catódica de racimos de argón de materiales orgánicos.

International Organization for Standardization (ISO), Espectrometría de masas de iones secundarios+

ISO 13084:2018 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo.
ISO 13084:2011 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
ISO 22048:2004 Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios.
ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio
ISO 17560:2014 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio.
ISO/TS 22933:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para medir la resolución de masas en SIMS.
ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
ISO 14237:2000 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
ISO 20411:2018 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
ISO 178:1975 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
ISO 17862:2013 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
ISO 178:2019 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
ISO 17862:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
ISO 22415:2019 Análisis químico de superficie. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para determinar el volumen de rendimiento en el perfilado de profundidad de pulverización catódica de racimos de argón de materiales orgánicos.

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Espectrometría de masas de iones secundarios+

JIS K 0153:2015 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidad relativa en espectrometría de masas de iones secundarios estática
JIS K 0157:2021 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
JIS K 0158:2021 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
JIS K 0168:2011 Análisis químico de superficies: formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios
JIS K 0164:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el boro en silicio
JIS K 0143:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
JIS K 0156:2018 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para la calibración en profundidad del silicio utilizando múltiples materiales de referencia de capa delta
JIS K 0155:2018 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
JIS K 0169:2012 Análisis químico de superficie - Espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS) - Método para estimar parámetros de resolución de profundidad con múltiples materiales de referencia de capa delta

Association Francaise de Normalisation, Espectrometría de masas de iones secundarios+

NF ISO 23830:2009 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidades relativas en espectrometría de masas estática de iones secundarios
NF X21-070*NF ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.
NF ISO 17560:2006 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de boro en silicio mediante perfiles de espesor
NF ISO 14237:2010 Analizar la química de las superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Dosificación de los átomos de diámetro interior del silicio con ayuda de materiales dopés uniformes
NF ISO 23812:2009 Análisis químico de superficies: espectrometría de masas de iones secundarios: método para la calibración de profundidad del silicio utilizando múltiples materiales de referencia de capa delta

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Espectrometría de masas de iones secundarios+

GB/T 42263-2022 Determinación del contenido de nitrógeno en monocristal de silicio: método de espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 32495-2016 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio.
GB/T 24580-2009 Método de prueba para medir la contaminación por boro en sustratos de silicio tipo n fuertemente dopados mediante espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 24575-2009 Método de prueba para medir sodio, aluminio, potasio y hierro en superficies sobre sustratos de silicio y epi mediante espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 32281-2015 Método de prueba para medir oxígeno, carbono, boro y fósforo en obleas y materias primas de silicio solar. Espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 25186-2010 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.
GB/T 42274-2022 Determinación del contenido y distribución de oligoelementos (magnesio, galio) en materiales de nitruro de aluminio. Espectrometría de masas de iones secundarios.
GB/T 29851-2013 Método de prueba para medir boro y aluminio en materiales de silicio utilizados para aplicaciones fotovoltaicas mediante espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 20176-2006 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.
GB/T 29852-2013 Método de prueba para medir fósforo, arsénico y antimonio en materiales de silicio utilizados para aplicaciones fotovoltaicas mediante espectrometría de masas de iones secundarios
GB/T 22572-2008 Un método para estimar parámetros resueltos en profundidad utilizando materiales de referencia en capas multidelta para espectrometría de masas de iones secundarios en química de superficies

Professional Standard - Electron, Espectrometría de masas de iones secundarios+

SJ/T 11493-2015 Método de prueba para medir la concentración de nitrógeno en sustratos de silicio mediante espectrometría de masas de iones secundarios
SJ/T 11498-2015 Método de prueba para medir la contaminación por oxígeno en sustratos de silicio fuertemente dopados mediante espectrometría de masas de iones secundarios

American Society for Testing and Materials (ASTM), Espectrometría de masas de iones secundarios+

ASTM E1162-87(2001) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
ASTM E1162-87(1996) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
ASTM E1504-11(2019) Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
ASTM E1635-95(2000) Práctica estándar para informar datos de imágenes en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
ASTM E1635-06(2019) Práctica estándar para informar datos de imágenes en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
ASTM E2695-09 Guía estándar para la interpretación de datos espectrales de masas adquiridos con espectroscopía de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
ASTM E1162-11(2019) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Espectrometría de masas de iones secundarios+

KS D ISO 22048-2005(2020) Análisis químico de superficies: formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios
KS D ISO 18114-2005(2020) Análisis químico de superficie－Espectrometría de masas de iones secundarios－Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones
KS D ISO 20341-2005(2020) Análisis químico de superficie－Espectrometría de masas de iones secundarios－Método para estimar parámetros de resolución de profundidad con múltiples materiales de referencia de capa delta

未注明发布机构, Espectrometría de masas de iones secundarios+

BS ISO 22048:2004(2005) Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas de iones secundarios estáticos.
BS ISO 20341:2003(2010) Análisis químico de superficies. Secundario: espectrometría de masas de iones. Método para estimar los parámetros de resolución de profundidad con múltiples materiales de referencia de capa delta.

KR-KS, Espectrometría de masas de iones secundarios+

KS D ISO 17560-2003(2023) Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de medición de la distribución de profundidad del boro en silicio
KS D ISO 14237-2003(2023) Análisis de geometría de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para medir la concentración de átomos de boro añadidos uniformemente en el silicio

Group Standards of the People's Republic of China, Espectrometría de masas de iones secundarios+

T/CASAS 010-2019 Determinación de la concentración y distribución de trazas de impurezas en materiales de GaN mediante espectrometría de masas de iones secundarios
T/CASAS 009-2019 Determinación de la concentración y distribución de trazas de impurezas en materiales de SiC semiaislantes mediante espectrometría de masas de iones secundarios