ZH

EN

ES

Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов, Всего: 135 предметов.

В международной стандартной классификации классификациями, относящимися к Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов, являются: Обработка поверхности и покрытие, Керамика, Полупроводниковые материалы.


Association Francaise de Normalisation, Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • XP CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ - определение условий облучения для проверки фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов.
  • NF ISO 10677:2011 Техническая керамика - источники УФ-излучения для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов
  • XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий.
  • NF ISO 14605:2013 Техническая керамика. Источники света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения.
  • NF B44-103*NF ISO 10677:2011 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Источник ультрафиолетового света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • NF ISO 22197-4:2021 Техническая керамика. Методы испытаний полупроводниковых фотокаталитических материалов для очистки воздуха. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • NF ISO 22197-5:2021 Техническая керамика. Методы испытаний полупроводниковых фотокаталитических материалов для очистки воздуха. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • NF B44-105*NF ISO 14605:2013 Fine Ceramics (современная керамика, передовая техническая керамика) — источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • NF B44-101-4:2013 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4: удаление формальдегида.
  • NF B44-101-5:2013 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5: удаление метилмеркаптана.
  • NF B44-101-5*NF ISO 22197-5:2021 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • NF B44-101-4*NF ISO 22197-4:2021 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • NF ISO 18560-1:2014 Техническая керамика. Метод испытаний для измерения характеристик полупроводниковых фотокаталитических материалов для очистки воздуха методом испытательной камеры в условиях внутреннего освещения. Часть 1. Устранение...
  • NF B44-106-1*NF ISO 18560-1:2014 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов методом испытательной камеры при внутреннем освещении. Часть 1: удаление формальдегида.
  • NF EN 60811-410/A1:2017 Кабели электрические и оптоволоконные. Методы испытаний неметаллических материалов. Часть 410. Прочие испытания. Метод испытаний для измерения деградации меди, вызванной каталитическим окислением, проводников, изолированных ...
  • NF EN 60811-410:2012 Кабели электрические и оптоволоконные. Методы испытаний неметаллических материалов. Часть 410. Прочие испытания. Метод испытаний для измерения деградации меди, вызванной каталитическим окислением, проводников, изолированных ...

European Committee for Standardization (CEN), Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • PD CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий.
  • CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий.

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • JIS R 1750:2012 Тонкая керамика. Источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых при внутреннем освещении.
  • JIS R 1708:2016 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытаний для определения фотокаталитической активности полупроводниковых фотокаталитических материалов по потреблению растворенного кислорода.
  • JIS R 1712:2022 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод определения противоводорослевой активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.

British Standards Institution (BSI), Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • BS PD CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерение этих условий
  • BS ISO 10677:2011 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Источник ультрафиолетового света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов
  • BS ISO 19722:2017 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытаний для определения фотокаталитической активности полупроводниковых фотокаталитических материалов по потреблению растворенного кислорода
  • BS ISO 13125:2013 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания противогрибковой активности полупроводниковых фотокаталитических материалов
  • BS ISO 19635:2016 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод определения противоводорослевой активности полупроводниковых фотокаталитических материалов
  • BS ISO 14605:2013 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • BS ISO 22197-2:2019 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление ацетальдегида
  • BS ISO 27448:2009 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов. Измерение угла контакта с водой.
  • BS ISO 27447:2019 Отслеживаемые изменения. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод определения антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов
  • BS ISO 22197-3:2019 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление толуола
  • BS ISO 22197-4:2013 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление формальдегида
  • BS ISO 22197-3:2011 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление толуола
  • BS ISO 22197-2:2011 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление ацетальдегида
  • BS ISO 22197-1:2008 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление оксида азота.
  • BS ISO 22197-5:2013 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление метилмеркаптана
  • BS ISO 24448:2023 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Светодиодный источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • BS ISO 22197-4:2021 Отслеживаемые изменения. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление формальдегида
  • BS ISO 22197-1:2016 Отслеживаемые изменения. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление оксида азота
  • BS ISO 27447:2009 Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод определения антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • BS ISO 19810:2017 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Измерение угла контакта с водой
  • BS ISO 18061:2014 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Определение противовирусной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов. Метод испытания с использованием бактериофага Q-бета
  • BS ISO 17168-2:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Удаление ацетальдегида
  • BS ISO 22197-5:2021 Отслеживаемые изменения. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Удаление метилмеркаптана
  • BS ISO 17168-4:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Удаление формальдегида
  • BS ISO 17094:2014 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов при внутреннем освещении
  • BS ISO 19810:2023 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Измерение угла контакта с водой
  • 21/30403033 DC BS EN ISO 24448. Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, современная техническая керамика). Светодиодный источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • BS ISO 10676:2010 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения образующей способности активного кислорода
  • BS ISO 17168-1:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Удаление оксида азота
  • BS ISO 10676:2011 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения образующей способности активного кислорода
  • BS ISO 17168-5:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Удаление метилмеркаптана
  • 21/30425873 DC БС ИСО 22197-4. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида
  • BS ISO 17168-3:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Удаление толуола
  • BS ISO 22551:2020 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Определение степени снижения количества бактерий с помощью полупроводниковых фотокаталитических материалов при освещении в помещении. Полусухой метод оценки антибактериальной активности на…
  • 21/30425876 DC БС ИСО 22197-5. Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана
  • BS ISO 22601:2019 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытаний для определения эффективности окислительного разложения фенола полупроводниковых фотокаталитических материалов путем количественного анализа общего органического углерода (ТОС)
  • BS ISO 18560-1:2014 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытаний эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов методом испытательной камеры в условиях внутреннего освещения. Удаление формальдегида
  • BS ISO 19652:2018 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания характеристик полного разложения полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Разложение ацетальдегида
  • BS ISO 18071:2016 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Определение противовирусной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов при освещении помещений. Метод испытания с использованием бактериофага Q-бета
  • PD IEC TS 62607-3-3:2020 Нанопроизводство. Ключевые характеристики управления. Люминесцентные наноматериалы. Определение времени жизни флуоресценции полупроводниковых квантовых точек с использованием коррелированного по времени подсчета одиночных фотонов (TCSPC)
  • BS EN 60811-410:2012+A1:2017 Электрические и оптоволоконные кабели. Методы испытаний неметаллических материалов. Различные испытания. Метод испытаний на катализируемую медью окислительную деструкцию проводников с полиолефиновой изоляцией

German Institute for Standardization, Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • DIN CEN/TS 16599:2014-07*DIN SPEC 7397:2014-07 Фотокатализ - Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий; Немецкая версия CEN/TS 16599:2014.
  • DIN ISO 22197-1:2018-12 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2016 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота (ISO 22197-1:2007).
  • DIN 50449-1:1997 Испытание материалов для полупроводниковой техники. Определение содержания примесей в полупроводниках методом инфракрасного поглощения. Часть 1. Углерод в арсениде галлия.

KR-KS, Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • KS L ISO 10677-2023 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) — источник ультрафиолетового света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • KS L ISO 27447-2023 Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод определения антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • KS L ISO 14605-2023 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) — источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • KS L ISO 22197-2-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 2. Удаление ацетальдегида.
  • KS L ISO 22197-4-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • KS L ISO 22197-3-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 3. Удаление толуола.
  • KS L ISO 22197-1-2018 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • KS L ISO 22197-1-2022 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • KS L ISO 22197-5-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • KS L ISO 17168-1-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 1: Удаление.
  • KS L ISO 17168-2-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 2: Удаление.
  • KS L ISO 17168-4-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 4: Удаление.
  • KS L ISO 17168-3-2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 3: Удаление.

International Organization for Standardization (ISO), Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • ISO 19722:2017 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод определения фотокаталитической активности полупроводниковых фотокаталитических материалов по потреблению растворенного кислорода.
  • ISO 13125:2013 Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод испытания противогрибковой активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • ISO 19635:2016 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод испытания противоводорослевой активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • ISO 27447:2019 Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод определения антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • ISO 27447:2009 Тонкая керамика (высокотехнологичная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод определения антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • ISO 10677:2011 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Источник ультрафиолетового света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • ISO 19810:2023 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик самоочистки полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Измерение угла контакта с водой.
  • ISO 22197-1:2016 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • ISO 24448:2023 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) — светодиодный источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
  • ISO 22197-3:2019 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 3. Удаление толуола.
  • ISO 22197-2:2019 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 2. Удаление ацетальдегида.
  • ISO 19810:2017 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик самоочистки полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Измерение угла контакта с водой.
  • ISO 18061:2014 Тонкая керамика (Advanced Ceramics, Advanced Техническая керамика) - Определение противовирусной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов - Метод испытаний с использованием бактериофага Q-бета
  • ISO 22197-1:2007 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • ISO 22197-2:2011 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 2. Удаление ацетальдегида.
  • ISO 22197-3:2011 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 3. Удаление толуола.
  • ISO 22197-4:2021 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • ISO 22197-5:2021 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • ISO 22197-4:2013 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • ISO 22197-5:2013 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • ISO 17094:2014 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Метод испытания антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения.
  • ISO 27448:2009 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов. Измерение угла контакта с водой.
  • ISO 10676:2010 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения образующей способности активного кислорода.
  • ISO 17168-1:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • ISO 19652:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания на полное разложение полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Разложение ацетальдегида.
  • ISO 17168-2:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 2. Удаление ацетальдегида.
  • ISO 17168-3:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 3. Удаление толуола.
  • ISO 17168-4:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • ISO 22601:2019 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод определения эффективности окислительного разложения фенола полупроводниковых фотокаталитических материалов количественным путем.
  • ISO 18071:2016 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Определение противовирусной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Метод испытаний с использованием бактериофага Q-бета.
  • ISO 17168-5:2018 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • ISO 18560-1:2014 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов методом испытательной камеры в условиях внутреннего освещения. Часть 1. Удаление формальдегида.
  • ISO 22551:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Определение степени уменьшения количества бактерий с помощью полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Полусухой метод.

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • KS L ISO 27447-2011(2016) Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • KS L ISO 27447-2011(2021) Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • KS L ISO 27447:2011 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания антибактериальной активности полупроводниковых фотокаталитических материалов.
  • KS L ISO 27448-2011(2021) Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов. Измерение угла контакта с водой.
  • KS L ISO 27448-2011(2016) Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов. Измерение угла контакта с водой.
  • KS L ISO 22197-2:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 2. Удаление ацетальдегида.
  • KS L ISO 22197-3:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 3. Удаление толуола.
  • KS L ISO 22197-4:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 4. Удаление формальдегида.
  • KS L ISO 22197-1:2018 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • KS L ISO 22197-1:2008 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1: Удаление оксида азота.
  • KS L ISO 22197-1:2022 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
  • KS L ISO 22197-5:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 5. Удаление метилмеркаптана.
  • KS L ISO 10676-2012(2022) Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения формообразующей способности активного кислорода.
  • KS L ISO 27448:2011 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания самоочищающихся полупроводниковых фотокаталитических материалов. Измерение угла контакта с водой.
  • KS L ISO 10676:2012 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения образующей способности активного кислорода.
  • KS L ISO 17168-1:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 1: Удаление.
  • KS L ISO 17168-2:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 2: Удаление.
  • KS L ISO 17168-3:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 3: Удаление.
  • KS L ISO 17168-4:2020 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов в условиях внутреннего освещения. Часть 4: Удаление.
  • KS L ISO 10676-2012(2017) Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) – метод испытания эффективности очистки воды полупроводниковыми фотокаталитическими материалами путем измерения формообразующей способности активного кислорода.

AENOR, Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов

  • UNE-ISO 22197-1:2012 Тонкая керамика (современная керамика, современная техническая керамика). Метод испытания эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1: Удаление оксида азота
  • UNE 127197-1:2013 Применение метода испытаний для оценки эффективности очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов, пропитанных сборными железобетонными изделиями. Часть 1: Удаление оксида азота.

  Полупроводниковые фотокаталитические материалы, Полупроводниковые фотокаталитические материалы, Полупроводниковые фотокаталитические материалы, Фотокатализ полупроводниковых материалов, фотокаталитический непрямой полупроводник, Фотокатализ органических полупроводниковых материалов, Фотокаталитические полупроводниковые материалы, Фотокатализ полупроводниковых материалов, Фотокаталитические полупроводниковые материалы, Фотокатализ полупроводниковых материалов, непрямой полупроводниковый фотокатализ, Фотокаталитическая активность полупроводниковых материалов, Фотокатализ полупроводниковых материалов, Основные полупроводники, фотокаталитические материалы, Косвенный фотокатализ полупроводниковых материалов, непрямой полупроводниковый фотокатализ, Что такое полупроводниковые фотокаталитические материалы?, Почему в фотокаталитических материалах используются полупроводники, Полупроводниковые материалы и полупроводниковые фотокаталитические материалы, Фотокаталитически активные полупроводниковые материалы.

 




©2007-2023 ANTPEDIA, Все права защищены.