ASTM E2245-11(2018)
使用光学干涉仪的薄的反射膜的残余应变测量的标准测试方法
Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
- 标准号
- ASTM E2245-11(2018)
- 发布
- 2018年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM E2245-11(2018)
- 引用标准
- ASTM E2244 ASTM E2246 ASTM E2444 ASTM E2530
- 适用范围
- 1.1 本测试方法涵盖了测量薄膜中压缩残余应变的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用光学干涉仪（也称为干涉显微镜）对其进行成像。不接受接触底层的固定光束的测量结果。
1.2 本测试方法使用非接触式光学干涉显微镜，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室进行的。
1.3 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任建立适当的安全、健康和环境实践，并在使用前确定监管限制的适用性。
1.4 本国际标准是根据世界贸易组织贸易技术壁垒（TBT）委员会发布的《关于制定国际标准、指南和建议的原则的决定》中确立的国际公认的标准化原则制定的。
ASTM E2245-11(2018)相似标准
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