ISO 14606:2000
表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法

Surface chemical analysis - Sputter depth profiling - Optimization using layered systems as reference materials


说明：

  • 此图仅显示与当前标准最近的5级引用；
  • 鼠标放置在图上可以看到标题编号；
  • 此图可以通过鼠标滚轮放大或者缩小；
  • 表示标准的节点，可以拖动；
  • 绿色表示标准：ISO 14606:2000 ， 绿色、红色表示本平台存在此标准，您可以下载或者购买，灰色表示平台不存在此标准；
  • 箭头终点方向的标准引用了起点方向的标准。
标准号
ISO 14606:2000
发布
2000年
中文版
GB/T 20175-2006 (等同采用的中文版本)
发布单位
国际标准化组织
替代标准
ISO 14606:2015
当前最新
ISO 14606:2022
 
 
本国际标准为使用适当的单层和多层参考材料优化溅射深度分析参数提供了指导，以便根据俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质量中的仪器设置实现最佳深度分辨率光谱测定法。 本国际标准无意涵盖特殊多层系统的使用，例如δ掺杂层。

推荐

《表面化学分析 辉光放电发射光谱方法通则》修订稿征求意见

我国原有的GB/T 19502-2004《表面化学分析 辉光放电发射光谱方法通则》等同采用ISO国际标准：ISO 14707:2000。2021年3月12日，新的GD-OES国际标准ISO 14707:2021正式公布。...

谁引用了ISO 14606:2000 更多引用

GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 ASTM E2735-14(2020) 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南 BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法 ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法 ASTM E2735-14 选择X射线光电子光谱40;XPS41试验所需校准的标准指南


Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号