通过磁控溅射在铀和氮化铀表面分别制备得到Ti薄膜,所获得薄膜的晶面取向并不一致,分析表明膜基过渡层的改变使得薄膜沉积的晶面取向变化。XPS对界面的深度剖析表明,铀表面镀Ti薄膜膜基过渡层主要成分为金属铀和氧化铀共存,而氮化铀表面镀Ti薄膜的界面只有很薄的氧化铀层,深度剖析后迅速变为氮化铀,氧化层的厚度大大减小,并且基底为氮化铀的情况下,氧的扩散难以进行,膜基结合更加有利。...
——增加了原标准 5.3 中 CCD 和 CID 检测器的应用。——增加了原标准 6.2.2 中深度剖析定量分析所选择工作曲线样品“应具有可测定、可再现的溅射率”的要求。——增加了原标准 6.2.3 中计算工作曲线函数的要求。仪器分析的质量主要取决于如何使仪器处于最佳状态和如何正确地使用仪器。...
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