ASTM E1162-11
报告次级离子质谱分析法(SIMS)中溅深深度文件数据的标准操作规程
Standard Practice for Reporting Sputter Depth Profile Data in Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)
说明：
- 此图仅显示与当前标准最近的5级引用；
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- 此图可以通过鼠标滚轮放大或者缩小；
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- 箭头终点方向的标准引用了起点方向的标准。
- 标准号
- ASTM E1162-11
- 发布
- 2011年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E1162-11(2019)
- 当前最新
- ASTM E1162-11(2019)
- 引用标准
- ASTM E673
- 这种做法用于报告“方法”第 6 节中指定的实验条件。或“实验性”其他出版物的部分（受编辑限制）。该报告将包括每个数据集的具体条件，特别是出版物中不同溅射深度剖面数据集的任何参数是否发生变化。例如，表格的脚注或图形标题将用于指定不同的条件。1.1 这种做法涵盖了描述和报告仪器、样本参数、实验条件和数据缩减程序所需的信息。 SIMS 溅射深度剖面可以使用各种主束...