JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
JCT2133-2012, JC2133-2012
- 标准号
- JC/T 2133-2012
- 别名
- JCT2133-2012
JC2133-2012 - 发布
- 2012年
- 发布单位
- 行业标准-建材
- 当前最新
- JC/T 2133-2012
- 引用标准
- GB/T 602 GB/T 6682
- 本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括：铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。
JC/T 2133-2012相似标准
推荐
电感耦合等离子体发射光谱仪的相关知识了解
电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）是以电感耦合等离子炬为激发光源的一类光谱分析方法，它是一种由原子发射光谱法衍生出来的新型分析技术。它能够方便、快速、准确地测定水样中的多种金属元素和准金属元素，且没有显著的基体效应。ICP-AES方法的原理： 等离子体发射光谱法可以同时测定样品中的多元素的含量。当氩气通过等离子体火炬时，经射频发生器所产生的交变电磁场使其电离、加速并与其他氩原子碰撞。...
工信部发布第四批行业标准制修订计划 涉ICP-MS、HPLC等
本次发布的标准中，包括了化学化工、化学品、节能、印染、金属及半导体材料的检测方法和仪器检测标准等，涉及原子吸收光谱法、电感耦合等离子体原子发射光谱法、电感耦合等离子体质谱法、电位滴定法、离子色谱法、高效液相色谱法、分光光度法以及化学分析测定方法等。...
实用干货｜助力锂电行业，共迎科技未来，锂电池应用文集上新啦！
ICP-OES法测定半导体芯片清洗液中重金属ICP-OES法测定半导体材料制备工艺中镓、铁、钒、铜、钙、镁、铝、锌和硫含量电感耦合等离子体发射光谱法测定电池材料中金属元素含量微波消解-电感耦合等离子体发射光谱法测定电池材料中金属元素含量推荐产品AA-7050原子吸收分光光度计AA-7090型原子吸收分光光度计GBC Savant AA原子吸收分光光度计ICP-7760HP型全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪...
555项拟立项国家标准立项在即 涉光谱、色谱、质谱检测
、铁、硅、硼量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法推制金砷合金 砷量测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制铑化合物化学分析方法 第2部分：杂质元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制钯化合物分析方法 氯量的测定 离子色谱法推制核级银-铟-镉合金化学分析方法推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法 第1部分：镧中铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥和钇量的测定推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法...