JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
JCT2133-2012, JC2133-2012
JC/T 2133-2012 发布历史
JC/T 2133-2012由行业标准-建材 CN-JC 发布于 2012-12-28，并于 2013-06-01 实施。
JC/T 2133-2012 在中国标准分类中归属于: Q27 粘结材料，在国际标准分类中归属于: 71.040 分析化学。
JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法的最新版本是哪一版？
最新版本是 JC/T 2133-2012 。
JC/T 2133-2012 发布之时，引用了标准
JC/T 2133-2012的历代版本如下：
- 2012年 JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括：铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。
- 标准号
- JC/T 2133-2012
- 别名
- JCT2133-2012
JC2133-2012 - 发布
- 2012年
- 发布单位
- 行业标准-建材
- 当前最新
- JC/T 2133-2012
- 引用标准
- GB/T 602 GB/T 6682
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