JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法

Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method


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JC/T 2133-2012



标准号
JC/T 2133-2012
发布日期
2012年12月28日
实施日期
2013年06月01日
废止日期
中国标准分类号
Q27
国际标准分类号
71.040
发布单位
CN-JC
引用标准
GB/T 602 GB/T 6682
适用范围
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。




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