本标准规定了利用高分辨X射线衍射仪测试Ⅲ族氮化物外延片结晶质量的方法。本标准适用于在氧化物衬底(AlO、ZnO等)或半导体衬底(GaN、Si、GaAs、SiC等)上外延生长的氮化物(Ga、In、Al)N单层或多层异质外延片结晶质量的测试。其他异质外延片结晶质量的测试也可参考本标准。
GB/T 30653-2014由国家质检总局 CN-GB 发布于 2014-12-31,并于 2015-09-01 实施。
GB/T 30653-2014 在中国标准分类中归属于: H21 金属物理性能试验方法,在国际标准分类中归属于: 77.040.20 金属材料无损检测。
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