BS ISO 14701:2018
跟踪更改 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量

Tracked Changes. Surface chemical analysis. X-ray photoelectron spectroscopy. Measurement of silicon oxide thickness


BS ISO 14701:2018 中,可能用到以下耗材

 

A837045-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, C plane

A837045-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, C plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837044-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two Sides, A Plane

A837044-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two Sides, A Plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837047-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, M plane

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上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837041-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, M plane

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上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837042-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, R plane

A837042-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, R plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837040-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, C plane

A837040-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, C plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837038-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, A plane

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上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837048-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, R plane

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上海麦克林生化科技股份有限公司

 

MappIRAutomatedSemiconductorWaferAccessoryfor8英寸Wafers

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北京博德恒悦科贸有限公司

 

美呃锇彩-Tube,uncoated,withrings

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顺通世嘉国际贸易(北京)有限公司

 

BS ISO 14701:2018

标准号
BS ISO 14701:2018
发布
2018年
发布单位
英国标准学会
当前最新
BS ISO 14701:2018
 
 
引用标准
GUM-1995 ISO 18115-1 ISO 18116 ISO/IEC GUIDE 98-3:2008 ISO/TR 18392
被代替标准
BS ISO 14701:2011

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