Schwereloses Polstück

Für die Schwereloses Polstück gibt es insgesamt 38 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Schwereloses Polstück die folgenden Kategorien: Dichtungen, Dichtungsgeräte, Diskrete Halbleitergeräte, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Nichteisenmetalle, Chemikalien, Oberflächenbehandlung und Beschichtung, Drahtlose Kommunikation, Leitermaterial, Materialien für die Luft- und Raumfahrtfertigung.

American Society for Testing and Materials (ASTM), Schwereloses Polstück

ASTM F495-99a Standardtestmethode für den Gewichtsverlust von Dichtungsmaterialien bei Einwirkung erhöhter Temperaturen
ASTM F495-99a(2019) Standardtestmethode für den Gewichtsverlust von Dichtungsmaterialien bei Einwirkung erhöhter Temperaturen

Defense Logistics Agency, Schwereloses Polstück

DLA SMD-5962-90538 REV D-2003 MIKROSCHALTUNG, LINEAR, VIERFACH-SCHOTTKY-DIODEN-ARRAY, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-97572 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTGESCHRITTENES SCHOTTKY, TTL, VIERFACH-EXKLUSIV-ODER-GATE MIT 2 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-97577 REV A-2006 MIKROKREISE, DIGITAL, BIPOLAR, FORTSCHRITTLICHES SCHOTTKY-TTL, VIERFACHES POSITIVE-NAND-GATE MIT 2 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-97578 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTGESCHRITTENES SCHOTTKY-TTL, VIERFACHES POSITIVE-NOR-GATE MIT 2 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-97579 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTSCHRITTLICHES SCHOTTKY-TTL, DREIFACH POSITIVES NAND-GATE MIT 3 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA DSCC-VID-V62/09610-2008 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, DREIFACHER PUFFER/TREIBER MIT OFFENEN DRAIN-AUSGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-88584 REV B-2002 MIKROSCHALTUNG, LINEAR, BIPOLAR QUAD NTDS FAST/ANEW EMPFÄNGER, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-97560 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTGESCHRITTENES SCHOTTKY, TTL, QUAD 2-EINGANG POSITIV-ODER-GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-97561 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTGESCHRITTENES SCHOTTKY, TTL, DREIFACH, 3-EINGÄNGE, POSITIV UND GATE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-90633 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, LINEAR, QUAD-BIFET, OPERATIONSVERSTÄRKER, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87754 REV B-2011 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, HOCHGESCHWINDIGKEIT CMOS, ANALOGER MULTIPLEXER/DEMULTIPLEXER, DREIFACH EINPOLIG, DOPPELPOSITION, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-97541 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, SCHOTTKY-TTL MIT NIEDRIGER LEISTUNG, VIERFACHER POSITIVER NAND-PUFFER MIT 2 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-94522 REV A-2001 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLARES CMOS, PROGRAMMIERBARER SKEW-TAKTPUFFER, TTL-KOMPATIBLE EIN- UND AUSGÄNGE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-96815 REV A-2000 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTSCHRITTLICHES BIPOLAR-CMOS, 8-BIT-TTL/BTL-TRANSCEIVER MIT DREI-ZUSTANDS-AUSGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-94559 REV A-1994 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTSCHRITTLICHES SCHOTTKY-TTL, DUALER NAND-SCHMITT-TRIGGER MIT 4 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-96618 REV B-1997 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, STRAHLENGEHÄRTET, CMOS, DUAL-KOMPPLEMENTÄRPAAR PLUS INVERTER, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-97580 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR ADVANCED SCHOTTKY TTL, DUAL JK POSITIVE EDGE TRIGGERED FLIP-FLOPS MIT KLAREM UND VOREINGESTELLTEM, MONOLITHISCHEM SILIKON
DLA SMD-5962-84011 REV G-2005 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, FORTSCHRITTLICHES SCHOTTKY-TTL MIT NIEDRIGER LEISTUNG, DOPPEL-D-TYP-FLIP-FLOPS MIT POSITIVER KANTENGESTÖRUNG, MIT LÖSCHEN UND ZURÜCKSETZEN, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-96768 REV A-2003 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTSCHRITTLICHES BIPOLARES CMOS, VIERFACH-BUS-PUFFER-GATE MIT DREI-ZUSTANDS-AUSGÄNGEN, TTL-KOMPATIBLE EINGÄNGE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-92314 REV C-1997 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTSCHRITTLICHES BIPOLAR-CMOS, OKTAL-VERRIEGELTER TRANSCEIVER MIT DUAL-ENABLE, DREI-ZUSTANDS-AUSGÄNGE, TTL-KOMPATIBLE EINGÄNGE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
DLA SMD-5962-89950 REV A-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTGESCHRITTENES CMOS, JK-FLIPFLOP MIT DOPPELTER NEGATIVER KANTENGESTÖRUNG, ASYNCHRONES SETZEN UND LÖSCHEN, TTL-KOMPATIBLE EINGÄNGE, MONOLITHISCHES SILIZIUM

Association Francaise de Normalisation, Schwereloses Polstück

NF A91-407:1981 Eloxieren von Aluminium und seinen Legierungen. Beurteilung der Dichtungsqualität durch Messung des Masseverlustes nach Eintauchen in Säurelösung.

International Organization for Standardization (ISO), Schwereloses Polstück

ISO 12988-1:2000 Bei der Herstellung von Aluminium verwendete kohlenstoffhaltige Materialien - Gebackene Anoden - Bestimmung der Reaktivität gegenüber Kohlendioxid - Teil 1: Massenverlustmethode
ISO 12989-1:2000 Bei der Herstellung von Aluminium verwendete kohlenstoffhaltige Materialien – Gebackene Anoden und Seitenwandblöcke – Bestimmung der Reaktivität gegenüber Luft – Teil 1: Massenverlustmethode

PT-IPQ, Schwereloses Polstück

NP 2907-1987 Eloxiertes Aluminium. Inspektion der Beschichtung. Nach Eintauchen in phosphorhaltige Lösung. Messen Sie den Gewichtsverlust
NP EN 12373-6-2001 Anodisieren von Aluminium und Aluminiumlegierungen Teil 6: Beurteilung der Qualität versiegelter anodischer Oxidationsschichten durch Messung des Verlusts nach Eintauchen in Phosphorsäure-/Chromsäurelösung ohne vorherige Säurebehandlung
NP EN 12373-7-2001 Anodisieren von Aluminium und Aluminiumlegierungen Teil 7: Beurteilung der Qualität versiegelter anodischer Oxidationsschichten durch Messung des Verlusts nach Eintauchen in Phosphorsäure-/Chromsäurelösung mit vorheriger Säurebehandlung

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Schwereloses Polstück

GB/T 8753.1-2017 Anodisieren von Aluminium und seinen Legierungen – Bewertung der Qualität versiegelter anodischer Oxidationsbeschichtungen – Teil 1: Messung des Masseverlusts nach Eintauchen in Säurelösung(en)

TR-TSE, Schwereloses Polstück

TS 2675-1977 Eloxieren von Aluminium und seinen Legierungen – Bewertung der Dichtungsqualität durch Messung des Massenverlusts nach Eintauchen in Säurelösung
TS 2676-1977 ANODISIERUNG VON ALUMINIUM UND SEINEN LEGIERUNGEN – BEWERTUNG DER DICHTUNGSQUALITÄT DURCH MESSUNG DES OP-MASSEVERLUSTES NACH DEM EINTAUGEN IN PHOSPHOR-CHROMSÄURE-LÖSUNG

British Standards Institution (BSI), Schwereloses Polstück

BS EN 12373-7:2002 Aluminium und Aluminiumlegierungen - Anodisieren - Beurteilung der Qualität versiegelter anodischer Oxidationsschichten durch Messung des Masseverlustes nach Eintauchen in Phosphorsäure-/Chromsäurelösung mit vorheriger Säurebehandlung

Professional Standard - Non-ferrous Metal, Schwereloses Polstück

YS/T 63.1-2006 Kohlenstoffhaltige Materialien, die bei der Herstellung von Aluminium verwendet werden. Teil 1: Kathodische Pasten – Herstellung gebackener Teststücke, Bestimmung des Verlusts beim Backen und der scheinbaren Dichte nach dem Stampfen

工业和信息化部, Schwereloses Polstück

YS/T 63.1-2019 Prüfverfahren für Kohlenstoffmaterialien für Aluminium Teil 1: Röstverfahren für Kathodenpastenproben, Bestimmung des Röstgewichtsverlusts und Bestimmung der scheinbaren Dichte grüner Proben

未注明发布机构, Schwereloses Polstück

BS EN 3638:2007(2009) Luft- und Raumfahrt – Hitzebeständige Legierung FE – PA2601 (X6NiCrTiMoV26 – 15) – Abschmelzende Elektrode umgeschmolzen – Lösungs- und ausscheidungsbehandelt – Bleche, Bänder und Platten – 0,5 mm ≤ a ≤ 10 mm

European Association of Aerospace Industries, Schwereloses Polstück

AECMA PREN 2773-1999 Stahl der Luft- und Raumfahrtserie FE-PM3801 (X5CrNiCu17-4) mit abschmelzender Elektrode, umgeschmolzen, lösungs- und präzipitationsbehandeltes Blech und Band, kleiner oder gleich 6 mm Rm, größer oder gleich 1 310 MPa, Ausgabe P 2
AECMA PREN 2774-1999 Stahl der Luft- und Raumfahrtserie FE-PM3801 (X5CrNiCu17-4) Abschmelzelektrode, umgeschmolzen, lösungs- und ausscheidungsbehandelt, Stab a oder D kleiner oder gleich 200 mm Rm größer oder gleich 1 310 MPa Ausgabe P 2 [Siehe: CEN EN 2821]