G86 工业气体与化学气体 标准查询与下载



共找到 396 条与 工业气体与化学气体 相关的标准,共 27

本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量计算)。

Gases for electronic industry.High purity chlorine

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-12-22
实施
2015-07-01

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式:SiF。相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。

Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-12-22
实施
2015-07-01

本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。 本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫”该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。 分子式=SFs”相对分子质量j4皂O跚4192〔按2007 年国际相对原子质量计算)。

Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-12-22
实施
2015-07-01

本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按2009年国际相对原子质量计算)。

Gases for electronic industry.Hydrogen chloride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-12-22
实施
2015-07-01

GB/T 5275的本部分规定了用容积泵连续产生校准用混合气的方法,该方法通过多活塞容积泵、用纯气或混合气制备含两种或多种组分的校准用混合气体。这种泵可用于制备平衡气中气相组分的体积分数范围在0.1%以上的混合气体,测量的相对扩展不确定度U由相对合成不确定度乘以包含因子k=2得出,其值不超过0.5%。多个容积泵串联运行可获得更低浓度的混合气体。两个容积泵的串联组可制备的最低浓度为10。而且采用预混气代替纯气制备混合气体,还可得到更低浓度的混合气体,其结果及不确定度计算参见附录A。此方法的优点是可连续制备大量混合气体,且可制备多组分混合气体。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 2:Volumetric pumps

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T 5275的本部分规定了从纯气或其他混合气体通过注射器向平衡气中连续注入校准组分,从而连续制备含两种或多种组分的校准用混合气体的方法。使用预混气体代替纯气(参见附录A)可制备体积分数很低的混合气体。体积流量决定体积分数,可通过单个气体的流量计算得到,也可采用ISO 6145-1给出的适当方法独立测量。连续注射法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数目的注射器或单只注射器内含有已知的多组分混合气体,就可像制备二元混合气体一样方便地制备多组分混合气体。该方法还可通过很少的步骤,便捷地增高校准组分在混合气体中的体积分数。因此,也可用于评估气体分析仪的一些其他特性,如最低检出限、盲区以及精确度。该方法制备的二元混合气体(包含因子k=2)相对扩展不确定度为5%,适用范围为10~10(体积分数)。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 4:Continuous syringe injection method

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T 5275的本部分规定了通过用电化学法生成校准组分并将其引入载气流制备校准混合气体的方法。通过改变气体流量或改变通过电解池的电荷即可改变混合气体的组成。校准混合气体含量的相对扩展不确定度U由相对合成标准不确定度乘以包含因子k=2得到,其值不大于5%。本部分规定的制备方法多用于制备体积分数范围在0.1×10250× 10之间的校准用混合气体。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 11:Electrochemical generation

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T5275 的本部分规定了动态体积法制备混合气体所涉及的校准方法,并简要介绍了动态体积法制备技术的部分实例。 关于动态体积法制备技术在GB/T5275 的其他部分有更详细的描述。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 1:Methods of calibration

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T 5275的本部分详细阐述了使用市售热式质量流量控制器利用纯气或混合气连续制备含两种或多种组分的校准混合气体的方法。使用本方法制备校准混合气体所能达到的最好水平如下:相对测量扩展不确定度(由合成标准不确定度乘以包含因子k=2得到)U不大于2%。如使用预混合气体代替纯气,可制备摩尔分数低于10的混合气体。质量流量的测量不是绝对的,质量流量控制器需要单独校准。这种制备方法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数量的热式质量流量控制器,就可像制备二元混合气体一样方便地制备多组分混合气体。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 7:Thermal mass-flow controllers

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

本标准规定了纯氖和高纯氖的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于以深冷法提取的纯氖和高纯氖,主要用于霓虹灯及作为电子工业的填充介质,也用于激光技术、高能物理、混合气配制。分子式:Ne。相对分子质量:20.1797(按2009年国际相对原子质量)。

Pure neon and high purity neon

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T5275 的本部分规定了通过临界锐孔系统用纯气或混合气连续制备两种或多种组分的校准混合气体的方法。 通过选择适合的锐孔组合并配合纯气的使用,校准组分在校准混合气体中的体积数可以以10'为系数变化。 另外通过改变锐孔系统的初始压力可使校准组分的体积分数以10?为系数变化。 临界锐孔法的不确定度主要取决于流量校准方法、温度变化以及出口压力。 二元混合气体可得到的体积分数相对扩展不确定度(在包含因子人三2时)为356 。 使用预混气体而不是纯气可制备体积分数低得多的混合气体(参见附录A)。 确定质量或体积分数的质量流量或体积流量,可通过计算得出,也可采用ISO6145-1 给出的适当方法单独测量。 这种制备方法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数量的锐孔,制备多组分混合气体就如制备二元混合气体一样容易。 流量范围可从每分钟几毫升到每分钟10 工。 本方法特别适用于在大气压力下制备混合气体,但也可在高于大气压的压力下制备混合气体。 使用本方法的实用提示参见附录B。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 6:Gritical orifices

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T 5275的本部分规定了一种利用内含单个或多个毛细管组合(气体分割器)的设备,由纯气体或混合气连续制备校准混合气体的方法。单毛细管系统可用于制备组分体积分数在10~0.5的混合气体。本方法的相对扩展不确定度不超过2%,可用于制备指定气体氛围的工业气体混合系统。气体分割器用于从纯气或混合气制备一定体积比的混合气体。这种设备稀释获得体积分数0.000 5~0.9之间的基准气体,其相对重复性小于0.5%。气体分割器制备混合气体的溯源性,可通过将其与国家或国际气体标准比较来实现。实例参见附录A。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 5:Capillary calibration devices

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

本部分规定了通过扩散法制备摩尔分数在10~10范围内的校准用混合气体的动态法。本方法的相对扩展不确定度U,其值不超过±2%,由合成标准不确定度乘以包含因子(k=2)得到。若扩散源和使用位置间的管路很短,则扩散法可用于制备沸点在40 ℃~160 ℃范围内的室温下为液态有机组分的低浓度校准用混合气体。本部分规定的扩散法,不仅适用于制备与大气环境和室内空气中浓度相当的多种烃类的校准用混合气体,也适用于制备低浓度的水混合气体。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 8:Diffusion method

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

GB/T 5275的本部分是利用动态体积法制备校准用混合气体的系列国家标准的一部分。本部分规定了使用一种或多种易冷凝的组分连续制备校准用混合气体的方法。通过对相对标准不确定度贡献的合成,得到本方法的相对扩展不确定度不大于1%(扩展因子k=2)。与该系列的其他部分不同,本部分所描述的方法不需要精确测量流速,因为在计算体积分数的公式中没有流量参数。对于易冷凝和气相部分易发生表面吸附的气体组分,使用静态法很难制备浓度精确稳定的校准混合气。而且,这种校准用混合气体的压力不能接近饱和蒸气压,否则会发生冷凝。饱和蒸气压法就可以用来制备这类混合气体。

Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 9:Saturation method

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

本标准规定了工业六氟化硫的要求、检验规则、试验方法、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于氟与硫直接反应并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用作电力工业、冶金行业和气象部门等。分子式:SF。相对分子质量:146.050 419 2(按2009年国际相对原子质量)。

Industrial sulfur hexafluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2014-07-08
实施
2014-12-01

本标准规定了氢系统的类别、氢的基本特性、氢系统的危险因素及其风险控制的基本要求。本标准适用于氢的制取、储存和输送系统的设计和使用。

Essential requirements for the safety of hydrogen systems

ICS
71.020;71.100.20
CCS
G86
发布
2013-09-18
实施
2014-01-01

本标准规定了采用带火焰光度检测器(FPD)的气相色谱仪测定气体中总硫、总有机硫和形态硫的方法。 本标准是有原因氢、氧、氮、二氧化碳、甲醇合成气、氨合成气、干性天然气、焦炉煤气等气体中的总硫、总有机硫及形态硫的测定。总硫测定范围(以硫计)为0.07mg/m³~2mg/m³,形态硫的测定范围(以硫化氢中硫计)为0.07mg/m³~7mg/m³.

Gas analysis.Determination of sulfides.Gas chromatograph with flame photometric detector

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2012-06-27
实施
2013-02-01

本标准规定了氧化亚氮的技术要求、试验方法、包装、标志、贮存及运输,给出了安全警示。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮,主要用作制冷剂、助燃剂、防腐剂、麻醉剂、压力推进剂,此外,也用于化工、半导体制造和原子吸收光谱等领域。 分子式:NO。 相对分子质量:44.012 88(按2007年国际相对原子质量)。

Nitrous oxide

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2012-06-27
实施
2013-02-01

本标准规定了通过配备氦离子化检测器的气相色谱仪测定气体中组分的方法。 本标准适用于气体中微量和痕量组分的分析”

Gas analysis.Gas chromatograph with helium ionization detector

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2012-06-27
实施
2013-02-01

本标准规定了工业氦气的技术耍求、试验方法以及产品的包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于由深冷法制取及经回收制取的氦气。 工业氦气主要用于填充氦飞艇、飞行船、气球以及检漏等。 分子式=Hc”相对分子质量冼伽2 602〈薹安2OO7年国际相对原子质量〉。

Industrial helium

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2011-12-30
实施
2012-10-01



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