G86 工业气体与化学气体 标准查询与下载



共找到 396 条与 工业气体与化学气体 相关的标准,共 27

本标准规定了工业氧的技术要求、试验方法以及包装、标志、储存与运输。给出了氧气安全警示。 本标准适用于由深冷法分离空气和电解水等方法制取的气态或液态氧,主要用于冶金、化工、环境保护、火焰加工等。 分子式:O。 相对分子质量:31.9988(按2005年国际相对原子质量计算)。

Industrial oxygen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01

本标准规定了用于气体分析及气体分析用校准混合气的相关术语。

Gas analysis.Vocabulary

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01

本标准规定了气体中的微量氢的气相色谱测定方法。 本标准适用于氮、氩、氧、空气、氪、氙及灯泡用氩等气体中微量氢的测定,也适用于医学和电力等领域。测定范围为0.02~100×10(体积分数)。 当待测样品中含有200×10(体积分数)以上的氖或1000×10(体积分数)以上的氦时,将对氢的测定产生干扰。此时需将氢与氦、氖分离之后本标准方能适用。

Determination of trace hydrogen in gases.Gas chromatographic method

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01

本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式:NF。 分子量:71.001 9(按2001年国际相对原子量)

Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2007-12-14
实施
2008-07-01

本标准规定了氪气的要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于深冷法从空气中提取的气态氪。主要用于电真空、电光源工业,也用于激光器、医疗卫生等领域。 氪气是一种无色、无味、不活泼的气体。 分子式:Kr。 相对分子质量:83.798(按2001年国际相对原子质量)。

Krypton

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2006-09-01
实施
2007-02-01

本标准规定了氙气的要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于深冷法从空气中提取的气(液)态氙。主要用于电光源工业,也用于医疗、电真空、激光等领域。 氙是一种无色、无味、不活泼的气体。 分子式:Xe。 相对分子质量:131.29(按2001年国际相对原子质量)。

Xenon

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2006-09-01
实施
2007-02-01

本标准规定了纯氩、高纯氩的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气态和液态纯氩,以及经净化方法得到的纯氩和高纯氩。它们主要用于金属冶炼与焊接、半导体制造、电光源、标准样品的制备、科学研究等行业。

Argon

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2006-09-01
实施
2007-02-01

本部分规定了工业氢的要求、试验方法、包装标志、贮运及安全要求。 本部分适用于化学裂解、电解、吸附、膜分离以及氢化物等方法制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。它主要应用于石油、食品、精细化工、玻璃和人造宝石的制造、金属冶炼、切割以及焊接等行业。 分子式:H 相对分子质量:2.01588(按2001年国际相对原子质量表)

Hydrogen.Part 1: Industrial hydrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2006-01-23
实施
2006-11-01

本标准规定了采用电化学法测定气体中微量氧的方法原理以及对仪器的要求、仪器校准、测定及结果处理。 本标准适用于不与电化学反应器——化学电池发生化学反应且不干扰测定的气体。

Determination of trace oxygen in gases--Eletrochemical method

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2003-04-24
实施
2003-09-01

本部分规定了采用电解法测定气体湿度的术语和定义以及方法原理、仪器要求、试验方法及结果处理。 本部分适用于氮、氦、氖、氩、氪、氙、二氧化碳及其他不与五氧化二磷发生除吸湿以外的各种反应的气体湿度的测定。

Determination of moisture in gases--Part 1: Electrolytic method

ICS
71.040.40
CCS
G86
发布
2003-04-24
实施
2003-09-01

本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式:Cl2。 相对分子质量:70.906(按1999年国际相对原子质量)。 101.3 kPa下的沸点:一34.O5℃。 101.3 kPa下的熔点:一l01.0。C。 101.3 kPa及20℃下气体的密度:2.980 k9/m3。

Gases for electronic industry--High purity chlorine

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2003-03-05
实施
2003-08-01

本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等。

Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2002-10-15
实施
2003-04-01

本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料,采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼,主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。

Gases for electronic industry--Boron Trichloride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1999-09-16
实施
2000-06-01

本标准规定了纯氖产品的要求、试验方法以及包装、标志、贮存和运输等。 本标准适用于空分法制取的氖,它主要用于电光源、红外遥感及科学研究等。

Pure Neon

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1999-09-16
实施
2000-06-01

本标准规定了航空呼吸用氧产品的压力和特性、试验方法以及包装、标志等。本标准适用于由深冷法分离空气而制取的气态氧和液态氧,主要用于航空飞行人员的呼吸。 分子式:O2 相对分子质量:31.999(按1995年国际相对原子质量)

Breathing oxygen supplies for aircraft

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1998-10-19
实施
1999-04-01

本标准规定了医用氧产品的技术要求、试验方法以及包装、标志等。本标准适用于由低温法分离空气而制取的气态氧和液态氧,主要用于呼吸和医疗目的。 分子式:O2 相对分子质量:31.999(按1995年国际相对原子质量)

Oxygen supplies for medicine

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1998-10-19
实施
1999-04-01

本标准规定了电子工业用氢的技术要求、试验方法和包装、标志、安全等。 本标准适用于以工业氢为原料经纯化制取的钢瓶装氢气。氢主要被用来提供还原气氛,作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。 分子式:H 相对分子质量:2.016(按1991年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry--Hydrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1997-08-13
实施
1998-05-01

本标准规定了电子工业用氩的技术要求、试验方法和包装、标志。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的液态氩和气态氩。电子工业用氩气用于系统的吹扫、保护和增压,它还可用于化学气相淀积、溅射,等离子及活性离子 刻蚀剂和退火等不同工艺中。 分子式:Ar 相对分子质量:39.948(按1991年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry--Argon

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1997-08-13
实施
1998-05-01

本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等,适用于从分离空气或氨还原法制得的氮,在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压,也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼,不可燃,是一种窒息性气体。 分子式:N。 相对分子质量:28.0134(按1991年国际相对原子质量)。

Gases for electronic industry--Nitrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1997-08-13
实施
1998-05-01

本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等,适用于以深冷法从天然气、空气或工厂弛放气提取的高纯度氦,在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气,也用作载气和保护气等。 分子式:He 相对分子质量:4.003(按1991年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry--Helium

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1997-08-13
实施
1998-05-01



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