G86 工业气体与化学气体 标准查询与下载
共找到 396 条与 工业气体与化学气体 相关的标准，共 27 页
Safety rules for handling, loading and unloading, storing and using of cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-10-14
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Technical code for safety of methanol preparation from carbon dioxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical guideline for formic acid preparation from yellow phosphorus tail gas
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical code for safety of methane preparation from coke oven gas
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical guideline for methanol preparation from carbon dioxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical code for safety of formic acid preparation from yellow phosphorus tail gas
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-07-31
- 实施
- 2017-11-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-07-31
- 实施
- 2017-11-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Silane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-05-31
- 实施
- 2017-12-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Propylene
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-05-31
- 实施
- 2017-12-01 00:00:00.0
本标准确定了采用带火焰光度检测器(FPD)的气相色谱仪测定煤基合成气中硫化氢、羰基硫、甲硫醇、甲硫醚的方法提要、试剂和材料、仪器、采样、测定步骤、结果计算、精密度、试验报告。 本标准适用于煤基合成气中硫化氢浓度不低于0.08 mg/m、羰基硫浓度不低于0.12 mg/m、甲硫醇浓度不低于0.08 mg/m、甲硫醚浓度不低于0.07 mg/m的测定。
Determination of hydrogen sulfide carbonyl sulfide methanethiol and dimethyl sulfide in coal-based syngas—Gas chromatograph
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-30
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了痕量分析用气体的深度纯化技术。经纯化后气体的目标组分含量的体积分数低于0.01×10，压力为0.1 MPa～18 MPa，流量为0.1 L/min~100 L/min。 本标准适用于仪表校准用零点气、气相色谱分析所用的载气和标准气体的平衡气。本标准适用的气体为氧气、氢气、氮气、氦气、氖气、氩气、氪气、氙气。
Gas analysis—Guidelines for purification of gases for trace analysis instrument
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-30
- 实施
- 2018-01-01 00:00:00.0
本标准规定了采用电化学法测定气体中微量氧的方法，包括燃料电池法、赫兹电池法、氧化锆浓差电池法、离子流法、原电池法等，对仪器、校准、试验步骤、结果处理和试验报吿等提出了要求。 本标准适用于不与化学电池发生化学反应且不干扰测定的气体。测定范围：0.01×10(体积分数)~1 000×10(体积分数)。
Determination of trace oxygen in gases—Electrochemical method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了用配备硫化学发光检测器的气相色谱仪测定气体中硫化物及总硫的方法。 本标准适用于工业气体、天然气、液化天然气、液化石油气、焦炉煤气、食品级二氧化碳气、空气、汽车尾气、生物质气、煤制合成天然气等气体中硫化物及总硫的测定。 硫化物的测定范围：0.1 mg/m~1 000 mg/m。 含烃类的气体中总硫的测定范围：0.5 mg/m~1 000 mg/m，不含烃类的气体中总硫的测定范围：0.1 mg/m～1 000 mg/m。 对硫化物及总硫含量高于此范围的气体，可经稀释后测定。
Gas analysis—Determination of sulfide—Gas chromatography with sulfur chemiluminescence
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
GB/T5832 的本部分规定了采用电解法测定气体中微量水分的方法,描述了方法原理,对仪器、仪器校准、测定事项、精密度、结果处理、试验报告等提出了要求。 本部分适用于氮、氦、氖、氩、氪、氙、二氧化碳以及其他不与五氧化二磷发生除吸湿以外的各种反应的气体中微量水分的测定,测定范围:0.1×10-6 ~1000×10-6(体积分数)。
Gas analysis—Determination of water—Part 1: Electrolytic method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
GB/T5832 的本部分规定了采用露点法测定气体中微量水分的方法。 本部分适用于氢、氧、氮、氦、氖、氩、氪、氙、氧化亚氮等气体及其混合气体中微量水分的测定。 不适用于在水分冷凝前就冷凝的气体以及能与水分发生反应的气体。 本部分适用于0 ℃~-100 ℃ 气体露点的测定。
Gas analysis—Determination of water—Part 2: Dew point method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
Pure methane and high pure methane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-05-01
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-12-31
- 实施
- 2016-07-01
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH。 相对分子质量：76.662（按2011年国际相对原子质量计算）。
Gas for electronic industry.Germane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-09-11
- 实施
- 2016-05-01
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：CF。 相对分子质量：188.017（按2011年国际相对原子质量）。
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-09-11
- 实施
- 2016-05-01
