G86 工业气体与化学气体 标准查询与下载
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本标准规定了用氧化锆检测器气相色谱法测定惰性气体中微量氢、氧、甲烷、一氧化碳的测定方法。 本标准适用于氮气、氩气、氦气、氖气、氪气、疝气等惰性气体中微量氢、氧、甲烷和一氧化碳含量的测定。测定范围:(0～20)×10(体积分数)。
Determination of trace hydrogen,oxygen,methane and carbon monoxide in the inert gases. Gas chromatographic method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了工业氦气的技术耍求、试验方法以及产品的包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于由深冷法制取及经回收制取的氦气。 工业氦气主要用于填充氦飞艇、飞行船、气球以及检漏等。 分子式=Hc”相对分子质量冼伽2 602〈薹安2OO7年国际相对原子质量〉。
Industrial helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本部分规定了采用光腔衰荡光谱法测定气体中微量水分的术语和定义、方法原理、对仪器的一般要求、试验步骤、结果处理和报告。 本部分适用于含量的体积分数为0.2×10～20×10的气体中水分的测定。不适用于硅烷等遇光照分解及含有对水的吸收光谱有干扰的组分的气体中水分的测定。
Determination of moisture in gases.Part 3:The method of Cavity Ring-Down Spectroscopy
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了气体中微量氧的比色测定方法。 本标准适用于氢、氮、氩、氦、氖、氪、氙、甲烷以及其他不与一价铜氨络离子和氨发生反应的气体中氧含量的测定。测定范围:0.5×10～1000×10(体积分数)。
Determination of trace oxygen in the gases. Colorimetric method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量)。
Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本部分规定了空气分离工艺中液态氧、液态空气、吸风口空气以及液氧槽罐中碳氢化合物的测定方法。 本部分适用于氧气或空气中总碳氢化合物和C～C碳氢化合物的在线监测和离线检测。 本部分推荐测定的C～C碳氢化合物包括：甲烷、乙烷、乙烯、丙烯、正丁烷、异丁烷、1.3-丁二烯。 本部分推荐测定这些组分但并不局限于这些组分。在具体监测时，应当合理分析空分装置周边环境，增加对空气和氧气中其他可能危及空分安全运行的有机组分的监测。
Determination of hazardous materials in air separation process.Part 1: Determination of hydrocarbons
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了气态氦和液态氦的技术要求、检验规则、检验方法、产品的包装、标志、储存及安全警示等。 本标准适用于以深冷法提取的纯氦、高纯氦和超纯氦，主要用于光导纤维、激光、焊接切割、潜水呼吸、低温超导、增压、清洗、保护气等。 分子式：He. 相对分子质量：4.002 602（按2007年国际相对原子质量）。
Pure helium,high pure helium and ultra pure helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本部分规定了气体中颗粒含量测定的术语和定义、方法原理、仪器要求、试验步骤、校准和量值溯源、结果计算和判别、报告。 本部分适用于通过管道输送的气体中颗粒大小及含量的测定。颗粒直径的检测范围:0.1μm～10μm。 本部分不适用于瓶装气体及以液相状态存在的气体。
Determination of particle in gases.Light-scattering method.Part 1:Determination of particle in pipeline gases
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-06-16
- 实施
- 2011-11-01
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Boron trichloride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了氟和氟氮混合气的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全的要求。 本标准适用于电解无水氟化氢并经过纯化工艺处理后获得的氟。氟用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼、二氟化银、三氟化钴和三氟化镁等氟化物,也可用于激光气或塑料氟化处理等领域。 氟氮混合气制备采用压力法。混合气主要用于汽车、制药工业中材料氟化处理。
Fluorine and mixed gases of fluorine-nitrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了砷化氢的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于砷化合物与酸反应获得的砷化氢。在半导体器件制备过程中，砷化氢用于掺杂以及化合物半导体外延。
Gases for electronic industry.Arsine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了硒化氧的技术要求,试验方法以及包装、标志\迪运及安全。 本标准适用于硒铝、硒镁合金化合物水解单质硒与氢高温反应等方法获得并经精制得到的硒化氢产品。 它主要用于太阳能电池、半导体和集成电路生产的外延、离子注人和挨杂。 分子式:HsSe。 相对分子质量:80.975 88(按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Hydrogen selenide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了用于安全监测的固定式气体检测系统评价的术语和定义、项目和内容以及气体检测技术。 本标准适用于有毒和易燃气体检测系统的安全评价。本标准不适用于消防安全守则的规定。
Safety guideline for the evaluation of toxic and flammable gas detection systems
- ICS
- 71.040.10
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-10
- 实施
- 2011-10-01
本标准规定了氩的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷却法从空气、合成氨尾气中提取的液态和气态氩以及经纯化方法得到的氩。 氩用于系统的吹扫、保护和增压，它还可以用于化学汽相淀积、溅射、等离子及活性离子刻蚀剂和退火等不同工艺中。
Gas for electronic industry.Argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了氦的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从天然气、空气和工厂弛放气中提取的气态和液态氦，以及经纯化方法得到的氦。它们在半导体制造中用作清洗气、加压气、也用作载气和保护气等。
Gas for electronic industry.Helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维。
Gas for electronic industry.Oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。
Gas for electronic industry.Hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了电子工业用磷化氢的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。
Gas for electronic industry.Phosphine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
本标准规定了氨的技术要求，试验方法以及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。
Gas for electronic industry.Ammonia
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
