NOC-4000进口光学镀膜机概述：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送......
NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限......
NEE-4000（M）电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束......
NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置......
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4,&nb......
NTE-3000热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经......
NTE-3500（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3500是一款PC计算机控制的台紧凑型立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用......
NTE-3500（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。......
NTE-4000（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的......
NTE-4000（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的......
NTE-4000（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的......
NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可......
NSC-3000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限......
NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵......
NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子......
NPE-4000（ICPA）全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4,......
NPE-4000(M)PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大......
NPE-4000（A）全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜......
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达1......
NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到至大可达......
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