Pioneer 180 PED SystemNeocera脉冲电子沉积(PED)

产品简介脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统具有以下特点：能够发射高能脉冲（100ns）电子束（约1000A, 15keV），在靶材上穿透将近1um，使靶材快速蒸发形成等离子体。靶材上的非平衡提取（烧灼）能够使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。该系统适用于所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等，能够使用PED技术沉积各自的薄膜。

产品特点如下：
* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED
* 可用于外延薄膜沉积、多层异质结构和超晶格
* 氧化物薄膜沉积时兼容氧气
* 升级选项包括离子辅助PED、连续组份沉积PED和进样系统load-lock
* 可附加的沉积源有脉冲激光和射频/直流溅射
* 集成XPS/ARPES UHV集群系统和原位高真空基片传送系统

脉冲电子束沉积系统PED可以沉积的代表性材料示例如下：
* 高温超导YBCO（和GdBCO）薄膜
* 顺电Ba-SrTiO3薄膜
* 金属氧化物SrRuO3薄膜
* 隔热/音玻璃SiO2膜和Al2O3膜
* 聚四氟乙烯PTFE薄膜

技术指标如下：
* 真空腔为18"直径的球形腔体，含有8"CF窗口和3个6"CF PED源窗口
* PED源电子枪能量范围为8-20keV，脉冲能量范围为最大能量800mJ，最小能量100mJ
* 工艺气体包括氧气、氮气和氩气，脉冲能量变化范围为±10%，脉冲宽度为100ns

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请注意，以上情况仅为展示技术指标和部分产品特点，具体详情请咨询专业人士。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途