Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System

产品简介
脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统具有以下特点：
- 发射高能脉冲（100ns）电子束（约1000A,15keV），可以在靶材上穿透将近1um，使靶材快速蒸发形成等离子体。
- 靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。
- 在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。
- 所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED技术沉积各自的薄膜。
系统的特点包括：
- 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED。
- 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格。
- 升级选项：离子辅助PED、连续组份沉积PED、进样系统load-lock。
- 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/直流溅射。
PED沉积的代表性材料示例有：
- 高温超导（HTS）YBCO（和GdBCO）薄膜。
- 顺电（Ba-SrTiO3）薄膜。
- 金属氧化物（SrRuO3）薄膜。
- 隔热/音玻璃（SiO2）膜和Al2O3膜。
- 聚四氟乙烯（PTFE）薄膜。
系统的技术指标包括：
- 真空腔18"直径的球形腔体，8"CF窗口，6.75"CF PED源窗口，3个6"CF窗和额外的2.75"与1.33"CF窗口。
- PED源电子枪的能量范围是8-20keV，脉冲能量范围是最大能量800mJ，最小能量100mJ。
- 工艺气体压强范围是3-20mTorr，工艺气体包括氧气，氮气，氩气，脉冲能量变化范围为±10%，脉冲宽度为100ns，最大重复率为10Hzat15kV，5Hzat20kV。
- 基片加热温度范围为最高850℃，基片旋转范围是1-30RPM（360°旋转），多靶材旋转台最多可容纳6个1"的靶材或3个2"的靶材等。
系统的控制软件是Windows 7，LabVIEW 2013。PED系统还可配备外部的PED源触发器和真空泵干泵、涡轮分子泵等。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途